특허 · 2021 성과 기록
포토레지스트 하층막 형성용 고분자 화합물 이를 포함하는 EUV용 포토레지스트 하층막 조성물 EUV용 포토레지스트 하층막의 제조방법 및 포토레지스트 막 패턴의 형성 방법
- 출원등록기관
- (주)동진쎄미켐
- 사업자 등록번호
- 지재권 종류
- 특허
- 원자료 범위 구분
- 국내 출원
- 출원국
- 대한민국
- 원자료 출원·등록 구분
- 특허출원
- 출원등록번호
- 10-2021-0128852
- 출원등록일자
- 2021-09-29
- 사업화 활용
- 상업화
- 사업자 연결
- 사업자등록번호 미확인 — 원자료 보완 후 연결합니다.
- 원자료 식별
- 수집본 1 · 엑셀 행 4187
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