세정성능평가기술
오존층파괴물질(ODS) 및 인체유독물질이 포함된 기존세정제의 사용중지 및 법률적인 제한규정에 따라 대체세정제의 현장적용시 세정기술의 최적 조건을 선택하기 위한 평가 기술의 개발대체세정제 선택에 따른 시간, 경비의 절감 및 신기술개발, 지구환경보호
- 보유기관
- 한국생산기술연구원
- 등록일
- 2000-04-07
산업기술 통합검색
기술검색
적용된 검색조건
- 기술분류 화학공정 > 기타 화학공정
검색 결과 1086건
1 / 55 페이지천연조미료의 제조방법 및 그 천연조미료
본 발명은 천연조미료의 제조방법 및 그 천연조미료로서 감초뿌리를 필수원료로 하고 여기에 생강과 마늘을 함께 혼합하여 제조하는 천연조미료의 제조방법 및 그 천연조미료에 관한 발명임.
- 보유기관
- 한국생산기술연구원
- 등록일
- 2000-04-07
온천수 제조방법
본 발명은 온천수 제조방법에 관한 것으로, 활성탄 여과장치와 마이크로 필터를 통과한 물을 수지통에서 음이온 및 양이온 교환수지를 통과하면서 생성된 고순도의 순수에 온천수의 주요성분을 첨가시킴으로써 가정에서 다양한 종류의 온천욕을 즐길 수 있도록 한 것임.
- 보유기관
- 한국생산기술연구원
- 등록일
- 2000-04-07
아세토아세트아닐리드 제조 기술개발
· 년간 국내 수입금액이 500만달러에 이르는 큰 시장이 있는 제품으로 전량수입에 의존하고 있다. · 아세토아세틱 에틸에스테르를 아닐린과 가열반응 시킨다. · 용매하에서 가열환류시키거나 가압하에서 반응시킨다. · 년간 국내 수입금액이 500만달러에 이르는 큰 시장이 있는 제품으로 전량수입에 의존하고 있다. · 아세토아세틱 에틸에스테르를 아닐린과 가열반응 시킨다. · 용매하에서 가열환류시키거나 가압하에서 반응시킨다.
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2000-04-09
디페닐아민 제조기술 개발
유기고무약품, 염료 및 의약품원료, 화약안정제, 염소계용제의 안정제· 국내 미생산제품이다. · 관련 제품이 많고 종류가 다양하다. · 국내수요자가 다수로서 제품판매가 용이하다. · 생산 공정이 단순하다. · 시설투자가 많지 않아도 된다.
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2000-04-09
오렌지오일 무공해 고급세제
· 세척력이 뛰어난 천연물을 이용해 환경공해 없는 세제를 만듦. · 식물성오일을 이용한 것으로 세척력이 뛰어나고 천연향이 좋음. · 액상세제를 호텔,병원,학교등의 Hard Cleaner로 사용가능. · 천연물로 환경친화적 세제임. · 액상으로 세밀한 부분의 세척에 매우 유용함. · 손이나 몸에 묻어도 해가 없음. · 천연향으로 매우 신선함.
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2000-04-09
혼합 알킬안트라퀴논의 제조와 응용기술 개발
· 알킬안트라퀴논 산화-환원에 의한 과산화수소 제조공정 개발 · 혼합 알킬안트라퀴논 수소화 촉매 (팔라듐-실리카라이트) 개발 · 퀴논 및 히드로퀴논 용매 조성 및 선별에 의한 새로운 작용액 개발 · 알킬안트라퀴논 공정 작용액의 정제 및 재생 촉매 개발 (한국특허출원 94-29034호(1994) · 안정하고 선택적인 팔라듐 수소화 촉매 개발 · 독립적인 과산화수소 제조용 작용액 개발 및 관련 Know-How 확보
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2000-04-09
Dichlorobenzene(DCB) 제조기술 개발
· 파라/오르토비가 10이상인 선택적 p-DCB 제조 촉매공정 개발 · 90% 이상 전환율의 고활성, 고선택성 L-형 제올라이트계 촉매 개발 · Co-catalyst 도입으로 파라/오르토 이성체비 50 이상의 초선택적 반응시스템 개발 (대한민국 특허 제 102766호) 파라-이염화벤젠의 활성과 선택성을 동시에 향상시킬 수 있는 고체산 촉매를 수식 변형한 촉매를 개발하여 촉매분리 및 폐촉매 처리문제를 해결하고 분리공정의 부하를 최소화하는 기술
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2000-04-09
Trimethyl Phosphite(TMP) 제조의 공업화
· 삼염화인과 알코올로부터 새로운 TMP 제조공정 기술 개발 (한국특허 제 83239호(1995)) · TMP 제조시 파생되는 염화암모늄 슬러리의 새로운 처리기술 개발· 기존 공정 수율 70 - 86%을 능가한 95%의 TMP 제조 수율로 비용절감· TMP 연 600톤 생산을 기준으로 기본 설계 완료· 95% 이상의 고수율 제조기술 개발로 제조비용 절감과 경제성 제고· 적은 부산물 생성으로 간단한 제조공정· 반응액에 대한 새로운 분리기술 개발로 20% 에너지 절약기술
- 보유기관
- 한국화학연구원
- 등록일
- 2000-04-09
폴리비닐클로라이드/폴리(메틸메타크릴레이트) 블랜드를 포함하는 고분자 전해질 조성물 및 그의 제조방법
본 발명은 폴리비닐클로라이드/폴리(메틸메타크릴레이트)(PVC/PMMA) 블랜드를 포함하는 고분자 전해질 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 기계적 물성과 이온전도도 뿐만 아니라, 전극과의 계면 접착성이 우수한 PVC/PMMA 블랜드, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 및 리튬염을 포함하는 고분자 전해질 조성물 및 전기 고분자 전해질 조성물을 간편하게 제조하는 방법에 관한 것이다. 즉, PVC 고분자 및 PMMA 고분자에 가소제인 에틸렌카보네이트 및 프로필렌카보네이트와의 상용성 차이를 이용하여 상분리를 유도하고, 상분리된 두 고분자가 고분자 전해질내에서 이온을 전도시키는 상과 전해질의 물성을 향상시키는 두가지 목적을 동시에 달성한다. 즉, 가소제와의 상용성이 나쁜 고분자는 전해질 필름의 지지체로서의 역할을 하게 되며, 가소제와의 상용성이 좋은 고분자는 전해질 필름의 이온통로를 이룰 뿐만 아니라 필름의 접착성을 향상시켜 전극에서의 계면 접착성을 향상시키는 역할을 한다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
상호침투된 격자상 고체고분자 전해질 조성물
본 발명은 가교된 폴리에틸렌옥사이드 공중합체, 저분자량 폴리에틸렌글리콜디메틸에테르 및 리튬염을 포함하는 고체 고분자 전해질 조성물 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 상호침투된 격자상 고체 고분자 전해질 조성물은 가교된 폴리에틸렌옥사이드 불규칙성 공중합체 30 내지 90중량%, 폴리에틸렌글리콜디멜틸에테르 0 내지 55중량% 및 리튬염 10 내지 15중량%를포함한다. 본 발명의 상호침투된 격자상 고체 고분자 전해질 조성물은 기계적 물성과 이온 전도도가 우수하며, 간편하게 제조될 수 있을 뿐만 아니라 상용성의 문제도 발생하지 않는다. 또한, 본 발명의 고체 고분자 전해질 조성물은 제조과정에서 요기용매가 완전히 제거되므로, 전극물질의 부식이 적고 안전하다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
블렌드 고분자 전해질의 조성물
본 발명은 폴리에틸렌옥사이드, 폴리에틸렌옥사이드가 그라프트된 폴리메틸메타크릴레이트 및 리튬염을 주성분으로 하는 블랜드 고분자 전해질의 조성물에 관한 것이다. 이때, 그라프트 공중합체의 그라프트 정도는 13 내지 31 몰 %가 바람직하고, 그라프트 공중합체와 폴리에틸렌옥사이드의 혼합 조성비는 20 : 80(중량%) 내지 10 : 90(중량 %)가 바람직하며, 리튬염은 고분자 전해질내에 있는 옥사이드당 그의 몰비가 0.05 내지 0.1로 혼합되는 것이 바람직하다. 본 발명의 고분자 전해질은 상온에서의 이온 전도도와 투명성이 우수하고, 전극의 부식, 전해액 누출 및 상분리가 없으며, 제조공정이 간단하고 가격이 저렴하여, 전기변색소자를 비롯한 여러 전기 화학장치에 유용하게 사용될 수 있다. 본 발명으로 제조된 고체 고분자 전해질들은 유기 용매를 포함하고 있지 않아 전해액 누출 및 전극의 부식 문제가 없으며, 특히 제조 공정이 간단하여 고분자 전해질 필름 제조시, 공정성이 향상된다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
다공성 폴리술폰막에 전해질이 담지된 고체 고분자 전해질 및 그의 제조방법
본 발명은 다공성 폴리술폰막에 프로필렌카보네이트 및 리튬 퍼클로레이트의 액체 전해질을 담지시킨 고체 고분자 전해질 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 고체 고분자 전해질은 우수한 기계적 물성을 지니는 폴리술폰막을 사용하므로 그의 동공내에 다량의 액체 전해질을 함유할 수있으며, 다량으로 함유된 프로필렌카보네이트는 상기 고분자 전해질의 이온 전도도를 증가시킨다. 또한, 상술한 고체 고분자 전해질의 제조방법은 종래의 제조방법에서 사용된 자외선 등의 조사공정 및 다공성 막과 액체 전해질과의 상용성을 개선키 위한 동공 코팅공정을 필요치 않으므로, 제조 공정이 간단하고 경제적인 방법이다.리튬 고분자 이차전지를 비롯한 여러 전기 화학장치에 유용하게 사용될 수 있다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
블렌드 고체 고분자 전해질 조성물
본 발명은 블렌드 고체 고분자 전해질에 관한 것이다. 본 발명의 블렌드 고체 고분자 전해질은 폴리올리고옥시에틸렌옥시세바코일 약 10~60 중량%, 폴리에틸렌옥사이드 약 10~60 중량%, 리튬염 약 15~25 중량%, 바람직하게는 약 16~64 중량% 및 약 19~20 중량%로 조성된다. 본 발명의 블렌드 고체 고분자 전해질들은 기계적 물성 및 이온전도 특성이 모두 우수하고, 유기 용매를 전혀 포함하고 있지 않아 전해액 누출 및 전극의 부식 문제가 없으며, 상용성이 뛰어나고, 특히 제조공정이 간단하고 가격이 저렴하여 인-라인 프로세스를 이용한 고분자 전해질 필름 제조시 공정성이 크게 향상된다.리튬 고분자 이차전지를 비롯한 여러 전기화학장치에 유용하게 사용될 수 있다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
차아염소산용액과 유기용매의 분산을 이용한 PHA [poly(hydroxyalkanoates)]의 분리정제 방법
본 발명은 폴리머(polymer)의 분리정제방법에 관한 것으로, 포도당을 이용 30∼36℃의 온도에서 45∼52시간의 회분식 발효로 PHA[Poly(3-hydroxyalkanoates)]를 합성하는 미생물을 배양하여 얻어진 셀브로쓰(cell broth)를 원심분리 후 냉동건조하여 셀파우더(cell powder)를 제조하며, 이와는 별도로 차아염소산나트륨 또는 차아염소산칼슘과 같은 산화제 또는 소듐도데실설페이트와 같은 용해세제와 클로로포름, 염화메틸렌 또는 다이클로로에탄등의 유기용매를 섞어서 만든 분산에 상기 셀파우더를 넣어 잘저어 준 다음 원심분리한 후 여과하여 여과액을 얻고, 메탄올과 물을 혼합한 비용매(nonsolvent)를 이용하여 상기 여과액으로부터 PHA를 회수하여 비교적 쉽게 분자량이 높은 고순도의 PHA를 회수할 수 있는 분리정제방법이다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
폴리이미드와 폴리비닐시나메이트 블랜드를 이용한 액정 광배향막 및 그의 제조방법
본 발명은 광반응성이 우수한 폴리비닐시나메이트계 고분자에 우수한 열적 안정성을 나타내는 폴리이미드계 고분자를 블렌드한 액정 광배향막 및 그의 제조방법을 제공한다. 본 발명의 폴리이미드와 폴리비닐시나메이트의 브렌드 액정 광배향막은 폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산과 폴리비닐시나메이트를 1:9 내지 9:1의 중량비로 혼합하여 1-메틸-2-피롤리돈(NMP: 1-methyl-2-pyrolidone)에 용해시킨 다음, ITO유리판에 스핀코팅(spin coating)시킨 후, 100내지 300℃, 바람직하게는 150내지 250℃의 온도에서 가열하여 폴리아믹산의 이미드화 반응을 유도시켜 폴리이미드와 폴리비닐시나메이트의 블렌드 필름을 수득하고, 이렇게 수득한 블렌드 필름에 편광의 UV를 조사하여, 블렌드 필름에 구조적인 이방성을 유도시킴으로써 제조하였다. 본 발명에 의해서 제조되는 액정 배향막은 액정디스플레이의 제조시 높은공정 온도에서도 견딜 수 있으며, 장시간 사용할 때에도 액정 배향의 성능저하를 야기시키지 않아 장기적인 액정 배향의 안정성을 향상시티는데 크게 기여할 것으로 기대된다. 표시소자의 크기가 점차 커짐에 따라 가볍고 부피가 작은 표시소자의 개발이 시급해 지고 있어 앞으로 LCD시장은 노트북뿐만 아니라 랩탑용 모니터로까지 확대될 것으로 예상된다. 본 발명에 의한 광배향막은 기존의 TN LCD의 문제점을 해결할 수 있어 기업화 가능성이 높다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
리튬으로 치환되고 술폰화된 스티렌 올리고머 및 그를 포함하는 고분자 전해질
새로운 형태의 염 및 이를 이용한 고분자 전해질에 관한 것이다. 구체적으로, 단이온 전도 특성을 가진 염인 리튬으로 치환된 술폰화된 저분자량 스티렌을 제조하였고 이를 고분자 전해질에 응용하였다. 즉, 폴리에틸렌옥사이드 또는 폴리아크릴로니트릴 등의 고분자에 가소제로서 폴리에틸렌글리콜 또는 에틸렌카보네이트 등의 유기용매를 첨가하고 본 발명에서 제조한 리튬염을 첨가하여 고분자 전해질을 제조하였다. 이렇게 제조된 고분자 전해질의 이온전도특성이 기존의 무기리튬염을 사용한 경우에 비해 우수하였고, 직류전장하에서의 리튬염에의한 분극화 현상이 감소되었으며, 전기화학적 안정성이 향상되었다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
그라프트형태의 고체고분자 전해질
리튬전지의 고분자 전해질로 응용될 수 있는 새로운 그라프트 형태의 고분자 합성방법과 이를 금속염과 혼합하여 고분자 전해질의 제조에 관한 것으로 주사슬과 측사슬에 동시에 이온을 해리할 수 있는 옥시에틸렌 구조를 띠는 그라프트 고분자를 합성하고 이를 통해 낮은 유리전이온도와 높은 이온전도특성을 나타내는 고분자 전해질을 제조하였다. 또한 가교반응에도 전도도의 감소가 적으며 우수한 기계적 물성을 나타냄으로서 고체 고분자 전해질로서 우수한 특성을 나타낸다. 이중결합을 갖으며 이온해리능을 갖는 주사슬에 솔보멀큐레이션 디멀큐레이션법을 이용하여 이중결합에 이온해리능을 그라프트 한 고분자를 이용하여 새로운 고체 고분자 전해질을 제조하는 것에 대한 것이다. 주사슬과 측사슬에 동시에 이온해리능을 가지므로써 우수한 이온 전도 특성을 나타내며 또한 그라프트 후의 잔여 이중결합을 가교반응을 통하여 우수한 기계적 물성을 나타낸다. 이온 전도 특성이 우수하고 더불어 기계적 물성이 우수한 고체 고분자 전해질은 누액이 없으며 리튬전지 구성시에 안정하다. 이온해리능을 갖는 구조를 주사슬과 측사슬에 동시에 지닌 구조는 매우 높은 이온전도도를 나타내며 리튬전지에 응용을 통하여 안정성이 고려되어야하는 전기자동차의 에너지원으로 사용될 수 있다.이온해리능을 갖는 구조를 주사슬과 측사슬에 동시에 지닌 구조는 매우 높은 이온전도도를 나타내며 리튬전지에 응용을 통하여 안정성이 고려되어야하는 전기자동차의 에너지원으로 사용될 수 있다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
지방족 폴리에스테르가 그라프트된 다당류의 합성
본 발명은 지방족 폴리에스테르가 그라프트된 다당류의 합성법에 관한 것으로, 보고된 기존의 방법보다 높은 그라프트 수율을 얻을 수 있는 장점이 있다. 또한 이러한 지방족 폴리에스테르가 그라프트된 다당류를 이용하여 지방족 폴리에스테르나 전분과 같은 천연고분자들의 하나 또는 둘 이상의 조합으로 구성된 물질을 이용하여 완전 생분해성 고분자 조성물을 제조할 때 우수한 기계적 물성을 가지는 완전 생분해성 고분자 조성물을 제조할 수 있는 장점이 있다.기존의 제조방법은 전분과 환형 에스테르 단량체를 믹서에서 바로 반응시킴으로써 수율이 낮은 단점이 있었으나, 본 발명은 전분의 가소제를 이용하여 전분을 충분히 젤라틴화시켜 반응을 시킴으로써 수율이 높고 물성이 우수한 장점을 가진다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09
고분자 복합전극의 제조방법
본 발명은 폴리에틸렌옥사이드를 그라프트시킨 폴리아닐린 공중합체와 유기이황화물을 주성분으로 하는 고분자 복합전극의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 고분자 복합전극은 3-아미노벤젠산과 염화트리페닐메틸을 반응시키고, 티오닐클로라이드 및 폴리에틸렌옥사이드를 가하여 폴리에틸렌옥사이드가 치환된 아닐린 유도체를 수득하는 공정; 전기 공정에서 수득한 폴리에틸렌옥사이드가 치환된 아닐린 유도체와 아닐린을 공중합하여 폴리에틸렌옥사이드가 0.5내지 30몰% 그라프트된 폴리아닐린 공중합체를 수득하는 공정; 및, 전기 공정에서 수득한 폴리에틸렌옥사이드가 그라프트된 폴리아닐 공중합체와 유기이황화물을 중량비로 2:1 내지 1:5로 혼합하는 공정을 포함한다.본 발명의 고분자 복합전극은 폴리아닐린만으로 제조된 복합전극에 비해 리튬이온의 확산 계수가 우수하며, 더 높은 전류밀도를 가지므로 리튬 고분자 이차 전지의 고용량화와 급속 충방전을 위한 리튬 고분자 이차 전지용 전극물질로서 효과적으로 사용될 수 있을 것이다.
- 보유기관
- 한국과학기술원
- 등록일
- 2000-04-09