산업기술 통합검색
본 기술은 기판 상에 형성된 유기 전자 및 발광 소자를 보호하기 위해 기판의 상ㆍ하부면 그리고 소자의 전체 상부 면에 형성된 엔캡슐레이션 박막에 관한 것이다.유기 전자 및 발광 기판 또는 소자를 보호하기 위해 유기물과 무기물을 포함하는 투명성 다층 복합박막을 하나의 플라즈마 장비를 이용하여 공정을 단축하고, 유기 전자 및 발광 소자의 제조원가를 절감하고 수명을 연장시킬 수 있도록 한 엔캡슐레이션 박막 을 형성한다.
본 기술은 PH 및 온도 민감성 하이드로겔에 관한 것으로, 폴리에틸렌글리콜과 생분해성 고분자의 공중합물을, 카르복실기를 갖는 썰폰아마이드 유도체와 커플링시켜 얻어지는 2중 블록 또는 3중 블록 공중합체에 관한 것이다.본 기술의 공중합체는 온도 뿐만 아니라 PH 민감성을 나타내는 것으로, 기존의 온도 민감성 공중합체의 단점을 보완할 수 있는 외에, 의료용, 약물전달 분야에서 다양한 용도로 활용이 가능하고, 적절한 온도와 PH에서 보다 단단한 형태의 하이드로겔을 형성함으로써, 약물 담지와 방출, 그리고 체내에서의 안정성 문제까지 동시에 해결할 수 있다.
본 기술은 (+)2-아미노메틸렌-3-옥소-3-페닐프로피오네이트 유도체를 유기 극성용매와 물에서 염기와 반응시켜 (-)벤즈옥사진 유도체를 얻은 다음, (-)벤즈옥사진 유도체와 피페라진 유도체를 반응시키는 것으로 이루어진 (-)피페라진 벤즈옥사진 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
본 기술은 관능기를 갖는 스티렌계 유도체의 제조방법, 이를 이용한 기능성기를 갖는 신디오탁틱 폴리스티렌과 스티렌/올레핀 공중합체, 및 그의 제조방법에 관한 것이다.본 기술의 관능기를 갖는 스티렌계 유도체의 제조방법은, 관능기를 갖는 벤젠알데히드 물질을 실란으로 보호화시킨 다음, 'Tebbe' 물질을 이용하여 메틸렌화시키는 것을 특징으로 하는 것이고, 본 기술의 기능성 신디오탁틱 폴리스티렌 및 스티렌/에틸렌 공중합체의 제조방법은 본 기술의 방법에 따라 제조된 1종 이상의 관능기를 갖는 스티렌 유도체를 단독으로 또는 스티렌계 및 올레핀계 중의 1종 이상의 단량체와 함께 메탈로센계 촉매를 이용하여 중합하는 것을 특징으로 하며, 이러한 중합방법에 의해 제조될 수 있는 본 기술의 신디오탁틱 폴리스티렌 및 스티렌/에틸렌 공중합체는 중합체 중에 여러 가지 기능성기를 갖고 있다.본 기술에 따르면, 다양한 형태의 관능기를 갖는 스티렌계 유도체가 용이하게 제조될 수 있으며, 이 스티렌계 유도체를 사용하여 중합한 신디오탁틱 폴리스티렌 및 스티렌/에틸렌 공중합체는 기능성기가 다양하게 도입됨으로써 새로운 고분자 재료로서의 응용범위가 확대되고 다양한 용도 개발이 가능하게 되며, 특히 기존 엔지니어링 플라스틱과의 블렌드 및 알로이 제품을 만드는데 획기적인 공헌을 하게 된다.
본 기술은 (R)(-)-3,4-디플루오로-2-(2-히드록시프로폭시)아닐린을 출발물질로 하여 트리페닐포스핀, 카르본테트라클로라이드, 진크할라이드와 반응시키는 것으로 이루어진 항균제 제조에 유용한 중간체인 7,8-디플루오로-벤즈옥사진 유도체의 제조방법을 제공한다.
본 기술에서는 화합물을 벤조산, 트리페닐포스핀 및 디에틸 아조디카르복실레이트의 존재하에 유기 용매 중에서 반응시켜 화합물을 제조하고, 화합물을 금속 촉매 존재하에 수소화반응시켜 화합물을 얻고, 화합물을 가수분해반응시켜 화합물을 얻은다음 화합물을 디에틸 아조디카르복실레이트, 트리페닐포스핀, 및 진크클로라이드의 존재하에 유기 용매 중에서 반응시키는 것으로 이루어진 (-)3(S)-메틸벤즈옥사진유도체의 제조방법을 제공한다.본 기술에 따라 제조된 메틸벤즈옥사진 유도체는 박테리아에 강한 살균 효과를 갖는 항균제의 제조에 유용한 중간체 화합물이다.
본 기술은 박테리아에 강한 살균효과를 나타내는 항균제 제조에 유용한 중간체인 (-)-3(S)-메틸피리도벤즈옥사진카르복실산 유도체 제조방법에 관한 것이다. 본 기술에서는 (+)2-벤조일-3-(실릴옥시프로피-2(S)-일)아미노아크릴레이트유도체를 유기용매중에서 테트라알킬플루오라이드나 테트라알킬할라이드와 메탈플루오라이드 혼합물과 가열 반응시킨 후 메탈히드록시드 또는 메탈카보네이트를 물 또는 물과 알콜의 액에 녹여 가한 후 가열반응시켜 화합물을 제조한다.
본 기술은 폴리메틸메타크릴레이트 (PMMA) 표면에 폴리에틸렌옥사이드 (PEO) 유도체를 화학적 결합시키거나 또는 그라프트중합하여 친수화 처리함으로써 생체적합성이 우수하고 단백질 및 세포의 부착이 억제되는 안과용 재료를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 기술의 방법에 의하여 제조된 안과용 재료는 콘택트렌즈, 인공수정체 및 특히 외부에 노출되는 인공각막 등에 사용될 수 있다.
본 기술은 탁산계 항암제의 합성공정에 핵심 중간체로 사용되는 (3R,4S)-3-히드록시-4-페닐아제티딘-2-온의 제조방법과 그 중간체들에 관한 것이다. 본 기술의 제조방법은 트랜스-신남아미드 유도체를 출발물질로 비대칭이수산화촉매 반응시켜 신규 (2R,3S)-2,3-디히드록시-3-페닐프로피온아미드 유도체를 제조하고, 이를 할로카르복시화시켜 신규 (25,3R)-2-카르복시-3-할로-3-페닐프로피온아미드 유도체를 제조한 후, 염기와 반응시켜 일반식(X)의 N-치환 (3R,4S)-3-카르복시-4-페닐아제티딘-2-온 화합물을 제조하며, 탈보호기반응을 통해 (3R,4S)-3-카르복시-4-페닐아제티딘-2-은 화합물을 거쳐 가수분해하여 (3R,4S)-3-히드록시-4-페닐아제티딘-2-온을 제조하는 것으로 구성되어 있다.
본 기술은 촉매로서 3차 아민 존재 하에, 트리클로로실란과 유기할로겐 화합물을 탈할로겐화 수소반응에 의해 결합시켜 유기실란 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.본 기술은 유기 아민보다 염기성이 낮은 3차 유기 포스핀 화합물을 촉매로 사용함으로써 벤질클로라이드나 알릴클로라이드와 같은 활성화된 염화알칸 뿐만 아니라 단순한 유기 할로겐 화합물과 할로겐이 치환된 알킬기를 갖는 유기규소 화합물도 Si-H 결합을 갖는 실란을 탈할로겐화수소 반응으로 결합시키는 것이 가능하다.
본 기술은 3차 유기 포스핀 촉매 존재 하에, 수소-규소 결합을 갖는 클로로실란 화합물과 유기 할로겐 화합물을 탈할로겐화수소 반응으로 결합시켜 화합물들을 제조하는 방법에 관한 것이다.본 기술로 인해 유기 아민보다 염기성이 낮은 3차 유기 포스핀 화합물을 촉매로 사용함으로써 벤질클로라이드나 알릴클로라이드와 같은 활성화된 염화알칸 뿐만 아니라 단순한 유기 할로겐 화합물과 할로겐이 치환된 알킬기를 갖는 유기규소 화합물도 Si-H 결합을 갖는 실란을 탈할로겐화수소 반응으로 결합시키는 것이 가능하다.
본 기술은 제 1 성분으로 디플루오로메탄(CH 3 F 2 , HFC-32)을 포함하고, 제 2 성분 및 제 3 성분으로 퍼플루오로프로판(C 3 F 8 , PFC-218)과 1,1-디플루오로에탄(CH 3 CHF 2 , HFC-152a), 또는 사이클로프로판(C 3 H 6 , RC-270)과 1,1,1,2,2-펜타플루오로프로판(CH 3 CF 2 CF 3 , HFC-245cb), 또는 부탄(C 4 H 10 , R-600)과 비스(디플루오로메틸)에테르(CHF 2 OCHF 2 , HFE-134)를 포함하는 HCFC-22 대체용 냉매 혼합물을 제공한다. 본 기술에 따르면, HFC-32에 PFC-218과 HFC-152a, RC-270과 HFC-245cb, 또는 R-600과 HFE-134를 혼합함으로써, 현재 사용중인 HCFC-22의 대체 냉매 조성물을 제조할 수 있는데, 이들은 오존층 파괴의 위험이 전혀 없어 향후에도 사용 규제에 대한 우려가 없는 것이 장점이다. 또한, 각각의물질들은 이미 생산이 되고 있거나, 차후 생산을 위한 연구가 활발히 진행중인 단계에 있으므로, 본 기술에 의해 그 용도가 좀더 확대됨으로써 좀더 효율적인 활용이 가능하게 될 것이다.
본 기술은 제 1 성분으로 디플루오로메탄(CH3F2, HFC-32), 제 2 성분으로 1,1,1-트리플루오로에탄(CH3CF3, HFC-143a)를 포함하고, 제 3 성분으로 사이클로프로판(C3H6, RC-270), 1,1,1,2,3,3,3-헵타플루오로프로판(CF3CHFCF3, HFC-227ea), 1,1,1,2,2-펜타플루오로프로판(CH3CF2CF3, HFC-245cb), 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로판(CHF2CHFCF3, HFC-236ea), 부탄(C4H10, R-600), 비스(디플루오로메틸)에테르(CHF2OCHF2, HFE-134) 및 펜타플루오로에틸메틸에테르(CF3CF2OCH3, HFE-245)로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 한 성분으로 이루어진 HCFC-22 대체용 냉매 혼합물에 관한 것이다.본 기술에 따르면, HFC-32와 HFC-143a의 혼합물에 RC-270, HFC-227ea, HFC-245cb, HFC-236ea, R-600, HFE-134, HFE-245 중의 어느 한 성분을 추가로 혼합함으로써, 현재 사용중인 HCFC-22의 대체 냉매 조성물을 제조할 수 있는데, 이들은 오존층 파괴의 위험이 전혀 없어 향후에도 사용 규제에 대한 우려가 없는 것이 장점이다. 또한, 각각의 물질들은 이미 생산이 되고 있거나, 차후 생산을 위한 연구가 활발히 진행중인 단계에 있으므로, 본 기술에 의해 그 용도가 좀더 확대됨으로써 좀더 효율적인 활용이 가능하게 될 것이다.
본 기술은 제 1 성분으로 디플루오로메탄(CH3F2, HFC-32)을 포함하고, 제 2 성분 및 제 3 성분으로 퍼플루오로프로판(C3F8, PFC-218)과 1,1-디플루오로에탄(CH3CHF2, HFC-152a), 또는 사이클로프로판(C3H6, RC-270)과 1,1,1,2,2-펜타플루오로프로판(CH3CF2CF3, HFC-245cb), 또는 부탄(C4H10, R-600)과 비스(디플루오로메틸)에테르(CHF2OCHF2, HFE-134)를 포함하는 HCFC-22 대체용 냉매 혼합물에 관한 것이다.본 기술에 따르면, HFC-32에 PFC-218과 HFC-152a, RC-270과 HFC-245cb, 또는 R-600과 HFE-134를 혼합함으로써, 현재 사용중인 HCFC-22의 대체 냉매 조성물을 제조할 수 있는데, 이들은 오존층 파괴의 위험이 전혀 없어 향후에도 사용 규제에 대한 우려가 없는 것이 장점이다. 또한, 각각의 물질들은 이미 생산이 되고 있거나, 차후 생산을 위한 연구가 활발히 진행중인 단계에 있으므로, 본 기술에 의해 그 용도가 좀더 확대됨으로써 좀더 효율적인 활용이 가능하게 될 것이다.
본 기술은 제 1 성분으로 디플루오로메탄(CH2F2, 이하 HFC-32), 제 2 성분으로 1,1-디플루오로에탄(CH3CHF2, HFC-152a)를 포함하고, 제 3 성분으로 1,1,1,2,3,3,3-헵타플루오로프로판(CF3CHFCF3, HFC-227ea), 이소부탄(CH(CH3)2CH3, R-600a), 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로판(CHF2CHFCF3, HFC-236ea), 부탄(C4H10, R-600), 비스(디플루오로메틸)에테르(CHF2OCHF2,HFE-134) 및 펜타플루오르에틸메틸에테르(CF3CF2OCH3, HFE-245)로 이루어진 군 중에서 선택된 어느 한 성분을 포함하는 HCFC-22 대체용 냉매 혼합물에 관한 것이다.본 기술에 따르면, HFC-32와 HFC-152a의 혼합물에 HFC-227ea, R-600a, HFC-236ea, R-600,HFE-134, HFE-245 중의 한 성분을 추가로 혼합함으로써, 현재 사용중인 HCFC-22의 대체 냉매 조성물을 제조할 수 있는데, 이들 물질들은 오존층 파괴의 위험이 전혀 없어 향후에도 사용 규제에 대한 우려가 없는 장점이 있다. 또한, 각각의 상기 물질들이 이미 생산이 되고 있거나, 차후 생산을 위한 연구가 활발히 진행중인 단계에 있으므로, 본 기술에 의해 그 용도가 좀더 확대됨으로써 좀더 효율적인 활용이 가능하게 될 것이다.
본 기술은 루테늄 촉매와 금속 아질산염의 존재 하에 유기 용매 중에서, 방향족 디아민을 수소화 반응시켜 시클로 지방족 디아민 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.종래 기술에 비해 반응 시간이 단축되고 그 수율이 향상되는 효과가 있다.
본 기술은 페로브스카이트 화합물을 첨가제로 사용한 가스 센서용 조성물 및 제조 방법으로서, 상세하게는 SnO 2 계 가스 센서에 있어서 희토류 금속과 전이금속(Mn)으로 구성된 Perovskite형 산화물 LnMnO 3 에 Ag이온을 넣은 복합 산화물을 첨가제로 이용한 가스 센서용 조성물 및 제조 방법에 관한 것이다. 본 기술에 의한 가스 센서는 감도가 향상되고 특정 전류 범위에서 민감도가 우수하다. 또한 센서 소재의 접착제로서 SiO 2 를 사용하고 내습제로 CeO 2 를 첨가함으로써 온도특성, 습도특성, 내구성 등에서 신뢰도 및 안정성이 우수한 알콜, CO, Alkane 가연성 가스 센서용 조성물 및 제조 방법을 제공한다.
본 기술은 리튬할로겐화합물 촉매의 존재하에서 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 반응시켜 알킬렌카보네이트를 제조하는 방법에 관한 것이다. 리튬할로겐화합물을 새로운 촉매로 사용하면 다양한 종류의 알킬렌옥사이드와 이산화탄소를 이용하여 보다 용이한 반응조건에서 빠른속도로 알킬렌카보네이트를 높은 수율로 합성하는 것이 가능하다. 또한 촉매는 촉매활성이 높을 뿐만 아니라 단일 물질로 이루어져 있기 때문에 생성물과의 분리가 쉽고 재처리가 용이하여 경제적인 관점에 있어서도 큰 장점을 가지고 있다.
본 기술은 수용성 키랄 보조제로서의 (5R,5'R)-5,5'-비스(옥사졸리딘-2-온) 및 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 종래 비대칭 반응기술에 사용되는 키랄 보조제가 당량으로 사용되고 관 크로마토그래피에 의해 분리하므로 회수가 어려웠던 1-작용기성 구조의 키랄 보조제와는 달리, 수용성으로서 C2 대칭성의 2-작용기성 구조를 가지는 신규한 수용성 키랄 보조제로서의 (5R,5'R)-5,5'-비스(옥사졸리딘-2-온) 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 특히, 본 기술은 1 당량의 키랄 보조제로 2 당량의 키랄 화합물을 합성할 수 있어 분자 경제성을 만족시키고, 대부분의 유기물 반응 생성물로부터 고가의 키랄 보조제의 분리가 용이하여 비대칭 반응기술에 사용되기에 효과적이다.
본 기술은 화학기상증착(CVD;Chemical Vaper Deposition)법에 의한 막상의 다이아몬드 합성 방법에 있어서, 합성 중 막에 인가되는 고유응력(intrinsic stress)을 제어하고, 최적의 기판을 선택하여, 균열(crack)이 없고 평탄한 다이아몬드 자유막을 제작하는 합성 방법에 관한 것이다. 특히 일정의 증착 온도에서 다이아몬드막을 일정 두께로 증착시킨 후 합성 중 증착 온도를 연속적으로 또는 여러 단계로 감소 또는 증가시켜, 합성 중 다이아몬드막에 압축 또는 인장응력을 유도하여 다이아몬드막에 인가된 압축 또는 인장응력을 상쇄시킴에 의해 성장 균열이 없는 다이아몬드 자유막을 제작하고, 또한 기판 재료로 탄성계수가 큰 텅스텐을 사용하여 휨이 없는 평탄한 자유막을 제작하는 것을 특징으로 한다. 본 기술에 의하여 종래 다이아몬드막 합성시 발생되었던 성장균열을 효과적으로 없앨 수 있으며, 막의 휨이 없는 균일하고 평탄한 다이아몬드막을 합성할 수 있다.