저가형 세라믹주형법
- 유기점결재와 무기점결재의 혼합 슬러리 제조법 - 정밀주형 및 중자 제조법 기술의 장점 - 주형의 강도 및 내열성 우수 - 다품종 소량 주물 제조에 유리 - 기존의 유기계점결재를 이용한 정밀주조법에 비해 제조원가 9% 절감
- 보유기관
- 한국생산기술연구원
- 등록일
- 2000-08-29
산업기술 통합검색
- 유기점결재와 무기점결재의 혼합 슬러리 제조법 - 정밀주형 및 중자 제조법 기술의 장점 - 주형의 강도 및 내열성 우수 - 다품종 소량 주물 제조에 유리 - 기존의 유기계점결재를 이용한 정밀주조법에 비해 제조원가 9% 절감
본 과제에서는 BaO-TiO2계, Ba(Zn1/3Nb2/3)O3계, SrTiO3를 포함하는 고용체 및 CaTiO3를 포함 하는 고용체의 고주파 유전특성을 연구하여 BaO-TiO2계의 경우 온도계수 +2∼+3ppm/℃의 값을 가지며 유전율이 33.5∼35, Q×fo가 50000 이상인 재료를 개발하였고, Ba(Zn1/3Nb2/3)O3계의 경우에는 유전율 38∼40, Q×fo값이 80000 이상의 특성을 나타내는 조성을 개발하였다. SrTiO3에 La(Zn1/2Ti1/2)O3, LaAlO3등을 첨가하여 온도계수를 0∼5ppm/℃로 조절할 수 있었으며, La(Zn1/2 Ti1/2)O3 첨가시 유전율은 53, Qxf 값은 8400이었고, LaAlO3 첨가시 유전율은 34∼37, Qxf 값은 24000-34000의 값을 나타내었다. 그리고 CaTiO3에 La(Zn1/2Ti1/2)O3, La(Mg1/2Ti1/2)O3, LaAlO3등 을 첨가하여 온도계수 1∼10ppm/℃를 갖고 유전율이 40∼50, Q×fo 값이 28000∼38000인 재료 를 개발하였다. CaTiO3-La(Zn1/2Ti1/2)O3-La2/3TiO3계 고용체 화합물에서는 0.5molCaTiO3 에 La2/3TiO3를 0.05mol 이내에서 첨가하여 유전율 50-52, Q×f0 값 20,000이상 그리고 온도계수가 ± 6ppm/℃ 인 고주파용 유전체를 제조할 수 있었으며, (Li1/2Nd1/2)TiO3- CaTiO3-NdAlO3계 고용체에서는 0.85mol (Li1/2Nd1/2)TiO3에 NdAlO3를 0.1mol 이내에서 첨가하여 유전상수가 100이상이고 Q×f0가 3,500 이상인 온도계수가 안정한 고주파용 유전체를 제조하였다. 한편 그동안 개발한 조성의 양산화 연구를 통하여 시제품을 제작할 수 있었으며, 시제품의 양산화 계획서 작성, 최적 양산화 공정도(Flowchart) 작성, 양산화 공정의 개선등을 이루었으며, 고주파 유전체 자동 측정 system의 개발을 완료하였다
-현재 산업용 장비는 하드웨어 부분이 필요이상의 크기를 차지하고 있다. FPGA나 ASIC을 이용한 디지틀 회로의 간략화 기술은 하드웨어 부분의 축소를 가능하게 할 수 있고, 빠른 수행시간을 위한 특수칩 개발에 응용 가능하며, 또한 소프트웨어 알고리즘을 고속으로 수행하기 위해 하드웨어 칩을 개발하는데 필요로 하는 기술이다. 간략화된 칩을 이용하면 제품 가격 인하, PCB 비용 절감, 제품 크기의 경박 단소화, 고신뢰성 확보 등의 장점이 있다.
-다품종 소량생산으로 특징지워지는 현대의 생산 환경에 대응하기 위해 개발된 시스템으로 MRP(Material Requirement Planning)와 JIT(Just in Time)가 있는데 MRP는 계획중심이고, JIT는 실적 중심이기 때문에 이들 시스템이 국내에 정착되지 못하고 있다. SNS(Sequential Numbering System)는 한국 제조업체의 여건에 맞는 한국형 생산/재고관리 정보시스템을 구축하는데 주력하였으며, 이는 계획과 실적이 이원화된 시스템이다. SNS는 부품별 생산계획, 공정별, 생산계획, 수배계획, 진도관리, 재고관리로 구성되어 있다. SNS의 생산계획은 일반 생산계획과 다르게 해당일 까지 생산 해야될 량의 누계 즉 SN(Sequen- tial Number, 누계)을 사용한다. 또한 최종 제품의 생산계획으로부터 구성 부품의 생산일정을 SN으로 계산하며, 공정별 생산실적과 납품실적도 SN으로 관리한다. 계획 SN과 생산실적 SN의 차이에 의하여 진도가 계산되고, 생산실적 SN과 납품실적 SN의 차이에 의하여 재고가 계산된다. 계획과 실적이 이원화 되어 있기 때문에 계획 SN과 실적 SN을 비교하여 진도정보를 쉽게 파악할 수 있어서 진도에 대한 책임소재를 파악할 수 있고, 계획변경과 수요변동에도 신속히 대응할 수 있다. 또한 시스템 로직이 간단하기 때문에 PC로도 구현이 가능하고, 수작업을 필요로 하지 않기 때문에 사무인력을 줄일 수 있는 잇점이 있다. SNS의 특성상 진도관리, 계획변경 또는 수요변동에 신속한 재계획, 사무비 절감 등이 요구되는 다품종 소량생산형태의 제품을 가공 및 조립하는 제조업체에 효과적으로 적용할 수 있다.
개별 공정 제조시스템에서의 생산 입력통제의 역할을 좀더 현실적인 모형하에서 연구하기 위하여 고객과 부품공급자를 포함하는 확장적 모델을 새롭게 개발하였고 이에 따라 필요한 새로운 성과측정치들을 개발하여 고객과 부품공급자 그리고 개별 공정 제조시스템 자체의 성과를 각기 다른 생산 입력통제 방식에 다라 분석하였고, 평가를 위하여 새로운 성과측정치인 종합적 측정치를 개발하여 주어진 제조 시스템에 가장 적절한 생산 입력통제 방식을 결정할 수 있도록 하였다.
-문서화상 이해 시스템은 크게 영역 분할, 영역식별, 인식 개체 추출, 개체 인식이란 4개 과정으로 이뤄진다. 본 연구는, 일반적인 문서화상으로부터 상이한 화상 영역을 자동 추출하여 크게 4가지 부류 즉, 본문 영역, 표제영역, 사진영역, 도형영역으로 고정도(High precision)로 분류하고, 추출된 본문 및 표제 영역으로부터 문자를 추출하는 방법을 제시하고, C 언어로 구현하였다. 본 연구의 영역분할 처리는 문서화상의 구조적 특징으로부터 계층적인 영역분할을 행하여 문서의 구조해석이 가능하고, 통계적인 특징량을 이용하여 영역을 상기 4가지 부류에 부가하여 표제영역의 경우 민무늬배경, 무늬배경, 흑문자, 백문자, 무늬문자의 형태에 따라 총 9가지 부류로 고정도 식별이 가능하다. 이같은 처리를 통해 추출되는 문자 개체는 임의의 문자 인식기를 통해서 코드 정보로 변환되며, 사진이나 도형영역 또한 향후 적절한 인식기를 통해 코드 정보로 변환될 수 있다. 이와 같이 코드화된 정보는 워드프로세싱이나 화상 통신, 멀티미디어 화일링 시스템 등의 다양한 응용에 사용된다.
-'90 년대 후반기에 들어서 세계 반도체 시장은 급격한 변화를 겪고 있다. 기존 업체의 대규모 설비 증설과 신규 업체들의 연이은 시장 진입에 의한 DRAM의 공급 과잉으로 더욱 치열한 가격 경쟁을 벌이게 되는 등 위기 의식이 고조되고 있는 현실이다. 이에 따라 반도체 디바이스의 회로 패턴은 미세화, 고집적화가 그리고 생산 현장에 있어서는 보다 높은 생산 수율이 요구되고 있다. 현재 약 440 여개에 이르는 단위 공정을 갖는 16메가 DRAM은 각 생산 공정이 끝나는 즉시 계측 공정을 통하여 엄격한 품질 관리를 실시한다. 이러한 품질관리를 통하여 불량률을 낮추고 높은 수율을 목표로 한다. 현재 반도체 산업현장에서는 이탈이 발생하였을 경우 숙련된 엔지니어의 판단에 전적으로 의존하고 있다. 그러나 현재 우리나라 반도체 생산현장에서 숙련된 엔지니어의 수는 극히 부족한 상태이므로 이들에 의한 이탈처리에는 많은 어려움이 존재한다. 특히 이들의 부재시, 혹은 아직 숙련되지 않은 엔지니어가 이탈처리를 관리할 경우 많은 판단착오를 일으키기 쉽다. 그러므로 이를 방지하기 위하여 전문가 시스템의 도입이 필수적이다. 즉 숙련 엔지니어의 지식을 지식 베이스(Knowledge Base)화하고 이를 바탕으로 Rule을 구성한 후 추론엔진을 구축하면 숙련 엔지니어에 대한 의존도가 낮아지고 이탈처리 관리가 매우 수월하게 된다. 따라서 본 연구에서는 숙련 엔지니어의 지식을 최대한 도출하여 지식 베이스를 구축하고 최적의 Rule을 구성하여 추론 결과가 최대한 숙련 엔지니어의 판단에 근접하는 것을 목표로 한다. 이를 통하여 빠른 이탈처리, 엔지니어의 판단착오 방지, 미숙련 엔지니어의 이탈처리 관리 등의 효과를 얻고 궁극적으로는 높은 수율을 얻고자 한다.
-본 연구에서 개발된 단축 얼라이너는 반도체 공정에 사용되는 클러스터툴로써, 실리콘 웨이퍼를 정렬하는 데 사용된다. 웨이퍼를 척(chuck)에 올려놓고 1회전시키는 동안에 고휘도 LED와 CCD 라인 센서를 이용하여 웨이퍼의 중심 및 fiducial mark의 위치를 판단하고 이를 정해진 방향에 위치하도록 정렬한다. 이 장비로는 직경 150mm 웨이퍼를 기준으로 0.3도 이하의 표준편차를 갖고 fiducial mark를 찾아낼 수 있으며, 편차는 15마이크로미터 내의 정밀도로 구할 수 있다. 얼라인 시간은 위치 정렬을 포함하여 평균 4.1초밖에 소모되지 않는다. 개발된 얼라이너는 고온의 웨이퍼를 진공중에서 다루기 때문에 일반 얼라이너와 같이 진공빨판을 사용하여 웨이퍼를 chuck에 고정시키지 못하고 단지 3-4개의 금속핀위에 올려놓고 회전하기 때문에, 회전하는 동안에 웨이퍼가 척(chuck)에 대해 상대적으로 움직이지 않도록 해야 한다. 이로 인해 얼라이너의 최대가속도가 제한되며, 또한 웨이퍼의 미소 진동을 방지하기 위한 척과 서보제어기가 필요하였다. 또한, 진공을 유지하기 위해 회전축에는 실링이 설치되는데, 이로 인한 점착-미끄럼 마찰로 인해 서보의 제어가 더욱 어렵게 된다. 또한 마찰특성이 시간에 따라, 또는 실링 설치상태에 따라 달라질 수 있기 때문에, 마찰 특성변화에 따른 제어능력이 필요하였는데, 본 연구에서는 시지연제어를 사용하여 이에 대응하였다. 본 시스템의 개발 기술이 누적된 기술은 반도체장비를 비롯한 초정밀 위치제어기술, 진동을 줄이는 구동 시스템 설계 기술, 실링등으로 인한 마찰 및 마찰변화에 대응하는 서보제어기술, 비접촉 센서인 CCD 라인센서를 이용하는 측정기술 등이다
고온초전도 마이크로웨이브 소자들중 공진기와 필터를 개발하기 위하여, 박막제조 분야에서는 RF-sputtering법으로 임계온도가 86K, 임계전류가 1X106 A/㎠의 좋은 특성을 갖고 있는 박막을 제조하였으며, 공진기 분야에서는 450MHz meander 라인 공진기, 7GHz 라인과 링공진기를 설계 및 제작하였다.공진기 특성은 Q-factor가 8,000정도이며, 표면저항은 약 0.4mΩ정도를 얻을 수 있었다. 필터분야에서는 가장 기본적인 구조이면서도 필터의 여러 가지 특성을 연구할 수 있는 parallel-coupled 형태의 설계 및 분석기술을 확보할 수 있었다. 또한 본 연구기간 동안에는 공진기와 필터 설계기술 확보 뿐만 아니라, 저온 측정시 가장 중요한 부분중의 하나인 마이크로웨이브 package를 제작하였다.
-화자 인식은 화자 식별(identification)과 화자 검증(verification)으로 나눌 수 있고, 특정한 구문을 사용하느냐에 따라서 구문 독립과 구문 종속으로 나눌 수 있는데, 본 연구는 구문 독립 화자 식별에 관한 것이다. 방사형 기저 함수망(RBFN)을 이용한 화자 식별의 과정은 먼저, 등 록시키고자 하는 화자(기준 화자)의 음성 데이터들로 네트웍을 학습시킨 다음에 식별할 때는 미지 화자의 음성 데이터로부터 그 사람의 신원을 파악하거나 등록되지 않은 사람일 경우에는 등록되지 않았음을 판별해 내는 것이다. 각 화자마다 신경망을 따로 가지도록 함으로써 기준 화자를 늘리더라도 시스템의 확장을 용이하게 할 수 있도록 하였고, 또 각 화자에 대해서도 여러 개의 RBFN을 가질 수 있도록 하여 한 사람의 다양한 특징을 학습시킬 수 있도록 하였다.
* 용도 : 얼굴/눈의 움직임에 의한 가상현실 시뮬레이터에서의 view control 및 손발을 사용하지 못하는 장애자들을 위한 단말 기능. 조종사의 시선 위치에 따라 적기를 targeting하는 Automatic Flighter Targeting system 및 원격화상회의에서 사용자의 응시 위치에 따라 camera를 자동 focusing 기술. 사용자의 얼굴 /특징점 추출 기술 : 현금 자동 인출기에서 사용자의 신원 파악을 위한 얼굴 식별 시스템 및 보안용 얼굴 인식/검증 시스템사용기종 : PC용(Pentium 급), W/S용(Sun, SGI, HP 등). 사용환경 : PC용(WIN3.1, Win95, Win 98, Win NT), W/S용(Sun, SGI Irix 등). 개발언어 : PC용(Visual C++ 5.0, Windows MFC, SDK), W/S용(C++, X library). 영상 입력용 장비 : CCD camera, 영상 capture board, digital CCD camera. 사용자의 얼굴/특징점 추출속도(20~30 frame/sec)가 빠름
-병원 안과에서 백내장, 녹내장등의 치료약품의 효능을 검사 할 때 안구의 안압 또는 안구의 방수 유출률 측정장비가 필수불가결한 계측장비이다. 안과에서 의사들이 동물의 생체실험에서 안구 방수 유출량을 연속적으로 자동적으로 계측할 수 있는 장치를 개발하였다. 시약 reservior를 step moter를 이용하여 높이가 자동으로 제어되도록 하였으며, 유량계측은 미세강관의 유체저항의 calibration 수치를 table로 계산하였고 일정한 유입압력을 계측하는 것은 정밀 저압용 액체 압력센서를 사용하였다.
광검출기는 입력된 광신호를 전기신호로 바꾸는 소자로서, 입력된 광신호에 의해 물질내에서 여기된 전자와 정공(hole)을, 이들이 재결합되기 전에 분리하여 전극으로 추출해내는 원리에 의해 작동한다. 이를 위하여 금속과 반도체사이의 Schottky 접합이나, 반도체간의 pn접합 특성을 이용한다. 입사광의 파장범위에 따라 응용분야가 달라지며, 이에따라 광흡수와 여기에 적합한 다른 에너지갭을 갖는 다양한 반도체가 사용된다. 일반적으로 광통신용으로는 1.31 ~1.55 ㎛의 파장의 흡수를 위하여 InP에 격자정합된 InGaAs를 사용하며, 가시광의 검출을 위해서는 저가의 Si이 사용되기도한다. 응용범위와 소자의 요구규격에 따라서 평면형과 메사형 등의 다양한 구조를 갖는 광검출기가 설계, 제작될 수 있는데, 광검출기의 설계, 제작시에는 일반적인 동작전압인 -5V에서 누설전류(leakage current)와 정전용량(capacitance)을 최소화 하면서 양자효율(광신호의 전기신호로의 변환효율)을 최대화 할 수 있도록 하여야한다
스크립트를 이용한 다이나믹 어셈블러와 시뮬레이터는 스크립트를 이용하여 원하는 어셈블러와 시뮬레이터의 기능을 다이나믹하게 생성할 수 있도록 제작되었다. 어셈블러를 생성하기 위한 스크립트 파일에는 명령어에 대한 정보들이 정의되어져 있고, 시뮬레이터를 위한 스크립트 파일에는 가상머신(Virtual Machine)을 구성하고 있는 머신 컴포넌트들이 정의되어 있고, 이들의 동작이 RTL(Register Transfer Level)로 기술되어져 있다. 이들은 PC버젼과 HP735버젼으로 만들어져 있고, C와 Visual C++4.0, HP-C++을 사용하여 프로그래밍 되었다. 또한 GUI(Graphic User Interface)를 제공하는 통합환경에서 운용된다. 이들의 구성을 간단히 살펴보면 다음과 같다. 먼저 명령어 스크립트 해석기에서는 명령어 스크립트 파일의 정보를 받아 이를 해석하여 명령어 포맷테이블, 명령어 니모닉 테이블 등 어셈블시 필요한 정보들을 생성해 낸다. 이들 정보들은 어셈블러로 전해지고 어셈블러는 이들 정보들을 이용하여 소스 코드에 대한 오브젝트 코드를 생성하게 된다. 스크립트 파일에서는 명령어의 크기, 메모리의 종류, 명령어에서 사용되는 니모닉들, 그리고 명령어 포맷들에 대하여 정의하고 있는데, 이러한 정보들을 가지고 어셈블러는 소스 파일에 대하여 오브젝트 코드를 생성 하게 되는 것이다. 시뮬레이터에서는 컴포넌트 액션 스크립트 해석기로부터 가상 머신에 대한 정보와 이들의 동작에 대한 정보를 넘겨 받게 되는데, 이들에 대한 내용은 컴포넌트 액션 스크립트 파일에 정의되어져 있다. 이 파일에는 가상 머신을 구성하고 있는 컴포넌트에 대한 정의부분과, 이들의 동작을 기술하는 액션 정의부분으로 나뉘어져 있다. 따라서 시뮬레이터는 어셈블러에서 생성된 오브젝트 코드를 사용자로부터 받은 디버깅 명령어에 따라 시뮬레이션 하게 되는 것이다. 이들은 앞에서 말한 GUI의 통합환경을 통하여 사용자로 하여금 쉽고 간편하게 시뮬레이션 할 수 있도록 제공하고 있다.
o 특고압(저압) 전력선의 이상유무를 감시하는 장치로서 결상(휴즈단선), 정 전,누전,과전류,과전압,저전압,역상,불평형전압등의 전기이상 발생시 자동으 로 전원을 차단하고 즉시 담당자에게 음성,호출,전화,휴대폰으로 고장내용 을 정확히 구분하며 알려주며 정상전원이 회복되면 다시 알려주고 전원을 재투입해주는는 장치로서 소방,가슬,도난시스템 동작유무도 알 수 있는 세 계에서 유일한 통합보호계전기시스템 o 차단기(VCB,ACB,MCCB)와 연계하여 선로차단 및 재투입동작이 수행되므 올 무인운전이 가능함 o 저압측에 취부하여 고압측결상(휴즈단선)시 2차측 모타 유기전압이 발생하 면 기존 국내외 계전기는 전압검출방식을 택하여 동작이 불확실했으나 이 런 결점을 완벽하게 보완하여 역전압에 무관하게 위상 검출방식으로 프로 그램화하여 정확히 결상을 검출함 o 전용 P.T가 불필요하며 POR, UVR, OVR등을 일체화한 통합보호계전기시 스템 o 누전, 과전류계전기는 설정치의 60-80%가 되면 1차경보(음성,호출)하고 설 정치의 100%에 도달하면 CB를 차단해주므로 화재, 감전사고를 사전에 예 방할 수 있음(1차경보는 선택사항임) o 고장내용을 구분하여 음성, 호출, 전화, 휴대폰으로 알려주므로 전혀 모르 는 미숙련자도 고장내용을 알 수 있음 o 고압 및 저압설비의 용량에 무관하게 설치 가능함 o 고장신고기억(16-99회로) 및 일자, 시간을 알 수 있으며 고장내용을 프린 트로 출력이 가능함 o 각기능별 확장이 용이하며 지시계기가 내장되어 있어 원가절감 효과가 큼
기존의 von Neuman 방식의 컴퓨터의 한계를 극복하기 위한 신경회로망 기술을 토대로 신경회로망 컴퓨터를 구성하고 이에 적합한 응용분야로 음성인식에 적용한다. 실생활에 쓸수 있도록 잡음에 둔감하도록 설계한 음성 전처리기는 인간의 청각을 모델링 하였고, 작은 신경회로망 네트웍으로 음성인식이 가능하도록, 음소 기반의 인식을 한다. 음소 인식을 수행해서 인식한 결과로부터 단어를 선정하는 후처리 기법을 사용한다. 신경회로망 컴퓨터는 PC에 인터페이스 되었으며, 시냅스 칩과 뉴런 칩으로 이루어져 있다. 시냅스 칩은 비휘발성 아날로그 메모리 기술은 사용하여 저장하는 정보가 전원이 없어도 소실되지 않는다. 신경회로망 컴퓨터가 패턴인식과 음성인식에서 고속의 국소 특징 추출기로 사용될 수 있음을 확인했다.
격자 연결 SIMD(Single Instruction Stream - Multiple Data Streams) 구조를 갖는 SliM(Sliding Memory Plane) 어레이 프로세서는 기존의 SIMD 어레이 프로세서가 갖는 근접통신 시간부담(Inter-Processing Element(PE) Communication Overhead), 데이타 입출력 시간부담(Data I/O Overhead), 복잡한 상호 연결망 등 단점들을 극복하고 성능 향상을 위해 제안되었다. 본 연구에서는 SliM 어레이 프로세서를 구현하기 위해 5 x 5 PE들이 격자연결로 구성된 SliM 이미지 프로세서 ASIC(Application Specific Integrated Circuit) 칩을 설계 및 구현하였다. SliM 이미지 프로세서 칩은 통신, 데이타 입출력 및 연산을 동시에 수행할 수 있기 때문에 통신 및 데이타 입출력 시간 부담이 크게 감소한다. 특히 Sliding 통신 방식과 Step 통신 방식은 효율적인 근접/비근접통신을 지원하며 새로운 곱셈 알고리즘을 제안하여 곱셈기를 사용하지 않고 효율적인 곱셈 연산을 수행하도록 설계하였다. 제안된 곱셈 연산 방식은 현재 특허 출원 중이다. 설계시 VHDL(VHSIC Hardware Description Language) 모델을 정립하였고 논리합성 및 Back-end 설계를 수행하였다. 셀 라이브러리는 0.8 m VTITM 표준 셀 라이브러리(v8r4.4)를 사용하여 ASIC 칩을 구현하였으며 전체 게이트 수는 25개의 128 x 9 bit SRAM을 제외하고 55,255개이다. 제작된 칩은 die 크기가 326.71 x 313.24 mil2인 144핀 MQFP로 구현되었으며 동작 주파수는 25 MHz로 한 칩당 625 MIPS의 성능을 제공한다. 제작된 칩의 성능평가를 위해 병렬 알고리즘을 개발하였으며 기존의 외국 이미지 프로세서들과 비교하여 성능이 우수함을 입증하였다.
-본 시스템은 미지의 파라미터를 갖는 선형 2차 또는 3차시스템의 PID 제어기의 실시간 자동 튜닝을 위한 것이다. 기존의 대부분의 PID 튜닝기법이 개루프 또는 폐루프 조건에서 실험적으로 제어기 이득을 결정하는 것과 달리 on-line 자동튜닝 기능을 가지며 외란의 바이어스 또는 명령 궤적의 추종을 위한 역모델을 학습하는 보조입력을 함께 사용함으로써 불확실한 동작조건에 더욱 강인한 특성을 지니고 있다.파라미터, 외란등 동작조건이 잘 알려지지 않은 DC 모터의 제어에 대한 적용을 보인다.
영화의 애니메이션이나 몰핑(morphing), 컴퓨터게임 등 영상물 캐릭터의 스크립트 기반 자동 표정/제스처 표현 도구 개발. 얼굴 및 표정을 자동 인식하여 화신(avatar)에 적용하는 각종 소프트웨어의 핵심 요소 기술 개발. 표정/제스처의 자동 인식을 통하여 범죄나 사고의 발생 가능성을 조기경보하는 은행, 교도소 등의 무인 경비 및 감시 시스템 개발기존 연구와 달리 체계적인 감성 구조를 먼저 개발하고 그것에 대응되는 다양한 표정 자료를 수집하여 표정에서 감성상태로, 감성상태에서 표정으로 전환할 수 있는 범용성을 확보. 한국인의 표준 두상에 근거한 표준 형상모형과 대규모의 체계적인 DB자료들을 기반으로 하여 연구 결과의 신뢰성을 획득
평판 디스플레이 분야는 전자산업에 있어서 미래를 선도해 나갈 수 있는 기술분야로 평가되고 있으며 그중 LCD(Liquid Crystal Display)가 가장 유력한 방법으로 평가되고 있다. 90년도 들어서 LCD기술은 응답속도가 빠른 TFT형 LCD 가 주류를 이루게 되었다. 액정을 구동하는 TFT Matrix 제조기술로, 현재 양산에는 대면적 증착과 저온공정(<400℃)이 유리한 비정질 실리콘을 사용하고 있다 그러나, LCD의 수율향상과 속도향상을 위해서는 다결정 Si-TFT가 필수적인데 재면적의 LCD를 위해서는 저온에서의 공정 방법이 개발되어야하는 문제점을 지니고 있다.본 연구는 금속 유도 측면 결정화(Metal-Induced Lateral Crystallization; MILC)법을 이용한 비정질 실리콘의 결정화 온도를 500℃ 이하에서 대면적의 유리기판위에 다결정 Si-TFT를 형성하는기술이다.. 금속 유도 측면 결정화란 비정질 실리콘 위에 선택적으로 증착된 얇은 금속박막을 형성한 뒤 500℃ 정도의 낮은 온도에서 열처리하면 금속 막이 증착되지 않은 측면 영역의 비정질 실리콘이 결정화되고 이 결정질 실리콘에는 금속오염이 없고 큰 결정립을 갖는 다결정 실리콘 박막을 얻을 수 있어 우수한 전기적 특성을 보인다. MILC 방법으로 500℃의 온도에서 유리기판위에 형성한 다결정 실리콘 TFT는 드레인 전압 20V에서 <1nA/1m의 낮은 누설전류, 전자이동도 100cm2/sec 이상의 특성을 보인다.