일반기술
광중합에 의한 광학 표면의 비구면화 기술
비구면 광학 소자의 제조하기 위한 기술이다. 구면 유리 기판 위에 중합체 박막을 증착시킴으로써 비구면 광학 소자를 제작할 수 있다. 광학 소자의 비구면 표면은 결정기와 기판 간의 올리고머 복합 재료의 광 경화에 의해 만들어진다. 비구면 표면의 정밀도는 이온 에칭에 의해 달성된다. 최대 두께 500 마이크로미터와 최대 직경 80mm의 중합체 층을 가진 비구면 렌즈를 최소 각도 0.5-2.0의 표면 정밀도를 가지고 개발된 기술에 의해 생산한다.최대 두께 500 마이크로미터와 최대 직경 80mm의 중합체 층을 가진 비구면 렌즈를 최소 각도 0.5-2.0의 표면 정밀도를 가지고 개발된 기술에 의해 생산한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 재료 (B63)
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-06-13
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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