일반기술
포토 레지스터 공정을 위한 다중존 열사이클링 모듈
열전달 기구의 새로운 배열을 이용하여 다중 지역 열 사이클링 모듈이 모노리소그래픽적 순차에서 채택한 포토레지스트 건조와 냉기 동작을 수행하였다. 이 모듈은 4개의 성분으로 나눌 수 있다. (1) 웨이퍼 지원 기구 (2) 과도와 정상 상태 조건 동안 웨이퍼 온도의 소신호 공간 변조를 위한 열소자의 다중 지역 배열 (3) 체적 가열 또는 냉각 효과를 이루기 위한 웨이퍼를 가진 도체 열전달을 위한 가열 교환기 (4) 다변수 온도 제어 전략웨이퍼 온도 불균일성을 제거하는 과도와 정상 상태 조건 모두에서 웨이퍼 온도의 공간 제어, 임계 차원 균일성을 개선시키기 위한 웨이퍼상의 원하는 공간 온도 프로파일, 같은 온도에서 굽기와 냉각, 분리된 굽기와 냉각 모듈 사이의 웨이퍼 수송 단계 제거
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-02-26
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.