일반기술
저전압 전자빔 시스템
저전압 전자빔과 고분해능을 달성하기 위한 종래의 SEM을 새로운 대물 렌즈들이 설계되고 제작되었다. 대물 렌즈들은 접지 전극속으로 샘플과 검출기 구축의 표면 전계 최소화를 위한 단지 샘플링의 전극 지연을 가진다. 지연 전계는 a) 대물 렌즈의 낮은 수차 b) 검출 개선을 위한 2차 전자 가속을 가진다. 실리콘 마이크로머신 2차 전자 검출기는 2100의 전류 이득을 갖는다. 17nm의 분해능은 100ev 상륙 에너지를 달성할 수 있다.초저 착륙 에너지 전자빔, 이 방법은 낮은 손상, 낮은 투과 깊이, 근접 효과를 가진다, 표면 토모그래피로 인한 왜곡이 적다. 고전압 SEM이 존재하는 매우 작은 수정을 요구한다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 시험측정 기술 (B63)
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-02-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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