일반기술
리소그래피를 위한 근접장 광학 개구의 주사 배열
이 발명품은 2개의 부품으로 구성된다. (1) 매우 좁은 폭에서 웨이퍼로 덮어진 포토 레지스터에의 UV 광적용을 위한 렌즈에서 결과 단계를 통하여 만들어진 캔틸레버 기반 소자 (2) 팁 샘플 공간 제어를 위한 새로운 방법개선된 보다 적은 선폭
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-02-28
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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