일반기술
펄스 스택 공동 링다운 분광
이 발명품은 고반복률 레이저, 초단펄스를 가진 동기적으로 펌핑된 고미세 공동에 의한 공동 링다운 분광이 성능을 확장하고 개선한 것이다.처리율 증가, 고출력 레벨
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-02-28
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.
일반기술
이 발명품은 고반복률 레이저, 초단펄스를 가진 동기적으로 펌핑된 고미세 공동에 의한 공동 링다운 분광이 성능을 확장하고 개선한 것이다.처리율 증가, 고출력 레벨
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