일반기술

주사 캐패시턴스 표본 준비 기법

이 기법은 서브미크론 차원의 소자 IC 반도체에서 전기적 집중과 도핑의 측정 개선이다. 이 발명품은 개선된 트랜지스터 성능과 준 0.1 미크론 트랜지스터를 위한 보다 소형인 설계 규칙 개발을 위해 사용할 수 있다.준 0.1 미크론 소자 설계와 시험이 가능한 2차원 캐리어 프로파일링을 허용하는 샘플의 원래 표면으로부터 떨어진 곳에서 자동적으로 표면 평활 왜곡 자유 측정

기술정보

기술분류
전기·전자 > 집적회로설계 기술 (B63)
보유기관
특허법인충정
기술유형
일반기술
등록일
2001-03-01
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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