일반기술
실리콘에 공유 결합된 유리 래디컬 화학으로 합성한 알킬 단층
실리콘 표면에 선택된 분자의 분자층을 공유 결합하는 기술이다, 실리콘 표면은 수소화된 실리콘 표면을 형성하기 위해 우선 에칭된다, 그리고 선택된 분자를 생성하기 위해 유리 래디컬 생성 화합물과 결합된다, 끝으로 유리 래디컬 생성 화합물과 수소화된 실리콘 표면간의 반응을 개시하기 위해 결합한 실리콘 표면과 유리 래디컬 생성 화합물에 열을 가한다, 선택적으로 유리 래디컬 생성 화합물 대신에 불포화 산출 부위에 실리콘 결합이 첨가되는 것 같은 구조를 가진 불포화 화합물이 이용될 수도 있다, 반응은 350nm 이하 파장을 가진 UV 빛에 결합된 실리콘 표면과 불포화 화합물이 노출될 때 개시된다자가 조립성 분자층, 의도된 크기와 지속성을 가진 분자층
기술정보
- 기술분류
- 화학공정 > 기타 정밀화학물질 기술
- 보유기관
- 특허법인충정
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2001-03-03
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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