일반기술

박막 두께 측정 장비

박막의 두께는 반도체 및 유전체 박막 제조공정을 비롯한 여러 박막관련 산업뿐만 아니라 표면 산화 및 부식 드의 전기화학적인 분야에서도 기본적으로 알아야하는 물리량이며 이는 박막의 여러 물성에 큰 영향을 미치기 때문에 수~수십Å 수준의 정확한 측정과 제어가 필요하다. 박막의 두께 측정 방법은 박막과 기판의 특성에 따른 제한이 존재하므로 측정방법선택 시 충분히 고려해야 접촉식의 stylus법과 비접촉식의 ellipsometry법이 널리 사용되어져 왔다. 최근에는 reflectometry법을 이용한 박막 두께 측정제품이 나오기 시작했다.편광되지 않는 백색광원을 사용하여 반사측정하는 것은 Array sensor를 사용함으로써 구동부(grating)가 없어 주위환경에 민감하지 않고 시스템이 매우 안정적이며 전파장을 동시에 분석함으로써 측정 시간을 최소화할 수 있다. 소형이므로 설치 공간에 대한 부담이 훨씬 적고 자외선, 가시광선 및 근적외선 영역내 광원의 전송은 일반적인 석영제 광섬유를 통해서 가능하며 광섬유를 통한 광전송을 함으로 다양한 형태로 시스템을 구성할 수 있다.상품 용도로는 반도체 박막 측정 (PR, SiO2, ITO …), 반도체 미세 Pattern 시료의 두께 측정, 박막의 두께, 광학 상수 (n,k) 측정 가능하며 반사도 측정을 이용한 시스템에도 사용 가능하다. 비접촉/비파괴식이며, 전처리가 불필요하며 공정 중 Monitoring도 가능하다.