일반기술
산 의존 Fluorophores를 이용한 화학증폭 포토레지스트 이미징 acids
화학적으로 증폭된 포토레지스트의 이미징 acids법은 산 의존 fluorophore로 이루어진 화학폭된 포토레지스트를 방사선에 노출시키는 것을 포함한다. 예를 들어 자외선 같은 방사선에 노출해 화학증폭 포토레지스트는 산을 생산하고 이것은 산 의존 fluorophore 의 형광에 의해 가시화된다. 이런 식으로 포토레지스터의 산의 위치를 알 수 있는 맵을 제공한다. 레지스트요소를 굽기 전에 먼저 이미지들이 보이게 된다. 산 의존 fluorophore를 이루는 화학 증폭 포토레지스트는 이 기술의 실용화에 유용하다. 이 방법은 포토액시드 제너레이터의 효율을 조사하는데 특별히 사용되고 포토 레지스트 안에 발생된 산의 양을 직접 조사할 수 있게 해준다.포토레지스트속의 산의 양 직접 측정 가능하다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-01-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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