일반기술

포토레지스트 시트를 형성하는 미세구조 형식

미세구조형식에서 형성된 PMMA(polymethylmethacrylate) 같은 포토레지스트 시트는 변형이 없다. 이것은 원하는 두께로 기판에 앞뒤로 붙여서 제작된다. 이 포토레지스트는 마스크를 통해서 X-레이 같은 방사능에 노출시켜 만들어지고 민감하다고 알려진 포토레지스트소재를 제거해서 만들어진다. 미세 금속 구조는 포토레지스트가 제거된 영역에서 전기도금에 의해 형성된다. 포토레지스트 그 자신은 유효한 미세 구조를 형성하고 포토레지스트에 영향을 받지 않는 제거제로 사용해 제거할 수 있는 시트와 기판사이의 릴리즈층(release layer)을 이용해서 기판으로부터 제거된다. 형성된 포토레지스트의 다중층은 복잡한 3차원 미세구조로 만든다.포토레지스트 내의 매우 작은 내부 변형은 더 두꺼운 포토레지스트 구조를 만들게 한다.자유로운 구조를 생산할 수 있다.모든 3차원에서 다양한 모양을 가질 수 있는 전해석출법(electrodeposition)에 의한 금속구조를 생산할 수 있다.