일반기술
극자외선 반사를 위한 나노 스케일 다층박막 적층 기술
극자외선 노광공정의 핵심 요소는 EUV 반사 다층박막의 형성기술이다. 높은 EUV 반사도를 얻기 위해서는 수 nm 두께의 다층박막을 약 80-100 층 순차적으로 증착을 하여야 하는데 본 기술은 multi-target sputtering 장비를 이용하여 Mo/Si 다층박막의 증착을 하고 아울러 여러가지 barrier 물질들을 증착한다.극자외선 반사를 위한 다층박막은 Mo: 2.8nm, Si: 4nm의 두께를 가지며 두께의 오차가 80층에 걸쳐서 약 3%내외로 조절되어야 높은 반사도를 기대할 수 있다. 이러한 정밀 증착 공정은 공정 자체의 미세 조정 외에도 증착한 다층박막의 characterization까지를 할 수 있어야 한다. 본 기술에서는 TEM 및 XRD과 optical simulation을 이용하여 다층박막의 정확한 광학적 특성을 평가하는 부분까지를 커버하고 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 재료 (B63)
- 보유기관
- 대학산업기술지원단
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2002-05-28
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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