일반기술
1.3nm 파장의 노광공정을 위한 membrane mask 기술
현재 유력한 차세대 노광기술로 연구되고 있는 EPL (electron projection lithography)용 마스크를 제작하는 기술로서, Si를 membrane으로 형성하여 deep etching하고 strut 등을 형성하는 일종의 MEMS기술을 응용하여 만들어진다.EPL 마스크를 제조하는데는 Si wet etching 기술, Si deep etching 기술 등의 공정기술과 strut 등의 형성을 위한 설계기술 등이 포함된다. 또한 마스크 사용시 일어날 수 있는 전자 빔의 trajectory와 이 전자 빔의 입사에 의한 마스크의 변형을 예측하여 수율 등을 추정할 수 있는 종합적인 simulation 기술이 표하된다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 대학산업기술지원단
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2002-05-28
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
등록된 관련 특허가 없습니다.