일반기술

나노튜브 이미터 장착 FED소자와 제조법

이 기술은 마이크로 팁을 대신한 나노튜브 이미터 층을 이용한 FED(field emission display) 소자와 박막정착이 아닌 thick film 프린팅 기술을 사용한 소자의 제조법과 포토리소그래피법을 제공한다. 소자속에서 나노튜브 이미터 물질층을 포함한 다양한 물질층은 유리판 위에 thick film 프린팅기법으로 형성될 수 있다. 나노튜브 이미터 물질은 카본과 다이아몬드 또는 다이아몬드 계열의 카본 물질의 나노튜브가 될 수 있는데 이러한 것들은 용매가 포함된 페이스트와 혼합되어있다. 이 페이스트는 thick film 프린팅 공정에 아주 적합한 농도를 가지고 있다. 나노튜브는 현재 소자로 사용 가능한 30nm에서 50nm의 직경을 가지고 있으며 스크린 프린팅이나 이 기술의 thick film 프린팅 기술은 박막정착과 포토리소그래피법보다 저비용으로 실현할 수 있다. 게다가 thick film 프린팅 기술은 박막정착 공정에서 사용되는 정착실 때문에 생기는 기판사이즈의 제한에 비교해서 크기의 제한이 없다. 특히 이 기술은 큰 사이즈의 FED 스크린을 제조하는데 적합하다.박막정착과 포토리소그래피법보다 저비용으로 실현할 수 있다. 기판사이즈의 제한이 없다.대형의 FED 스크린을 제조할 수 있다.이 페이스트는 thick film 프린팅 공 정에 아주 적합한 농도를 가지고 있다

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 반도체
보유기관
대일기업평가원
기술유형
일반기술
등록일
2003-01-27
데이터 갱신일
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상세설명

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