일반기술

카본 나노튜브 형성법

이 기술은 고밀집 플라스마를 이용하여 그래파이트상 또는 카본 입자에서 정제된 카본 나노튜브를 형성하는 쉬운 기술이다. 이것은 카본 나노튜브를 플라스마 화학증착법(PECVD)을 사용하여 고밀도의 플라스마에서 기판에 성장시키는 방법인데 밀도는 1011cm-3 또는 그 이상이다. 이 때문에 고밀도의 카본 나노튜브가 얻어지고 이후 카본 나노튜브의 형성은 플라즈마 정착에 의해서 미리 정해진 두께를 가진 기판 위에 카본 나노튜브층을 성장시키고 플라스마 에칭을 통해서 카본나노튜브층을 정제하여 이루어진다. 정제를 통해서 고순도의 카본 나노튜브를 얻을 수 있는 것이다. 이러한 카본나노튜브층의 성장과 정제를 반복하여 공정을 완성한다. 플라즈마 에칭을 위해 할로겐을 포함한 가스가 사용되고 그 예로 카본 tetrafluoride 가스가 소스 가스로 사용된다. 여기에서 고밀도로 탄소나노튜브를 성장시키고 그래파이트와 탄소 입자를 제거함으로서 탄소 나노튜브를 정제하기 때문에 그위에 반복과정에서 고밀도로 성장을 하게 되는 것이다.위와 같은 방법으로 고밀도의 카본 나노튜브는 안정된 CH4 가스를 고밀도의 플라즈마에서 분해하여 얻을수 있고 또한 고 순도의 카본나노튜브가 카본나노튜브의 성장과 정제의 반복으로 얻을 수 있다.