일반기술

고비율의 가로세로비(aspect ratio)를 가지는 MEMS 구조 생산공정

이 기술은 고비율의 aspect ratio(가로세로 비율)의 생산과 음활성(negative-acting)의 자외선 민감 포토리지스트(ultraviolet-sensitive photoresist)인 SU-8(negative photoresist)을 사용한 독립 마이크로 구조의 생산을 가능케 한다. 이 기술로 8:1의 가로세로 비율을 가지는 SU-8 마이크로 구조의 직경이 100미크론 이하가 되는 원통형 cavity를 생산할 수 있다. 이런 마이크로 구조는 gas avalanche microdetector 영역에 바로 적용할 수 있다. 이 프로세스는 flexible diaphragms, 주형 삽입물, 진공 정착을 위한 섀도우 마스크, 마이크로 채널 플레이트 디텍터 그리고 많은 MEMS 구조와 같이 여러 가지 타입의 마이크로 구조의 제조를 가능하게 한다. 이러한 타입의 높은 가로세로 비율의 마이크로 구조를 생산하는 공정은 LIGA(Lithographie; Lithography, Galvanoformung; Electroplating, Abformung; Plastic molding)프로세스인데 싱크로트론에서부터 나오는 고밀도로 집중된 X-ray가 X-ray sensitive 리지스트를 쪼이는데 사용된다. 이 기술은 자외선과 자외선 투과 마스크만이 필요하고 싱크로트론으로 접근이 필요가 없어서 LIGA 프로세스보다 더 경제적으로 실현이 가능하다.현재의 LIGA 프로세스보다 경제적이다. 자외선과 자외선 투과 마스크만이 필요하고 싱크로트론으로 접근이 필요가 없어서 LIGA 프로세스보다 더 경제적으로 실현이 가능하다8:1의 가로세로 비율을 가지는 SU-8 마이크로 구조의 직경이 100미크론 이하가 되는 원통형 cavity를 생산할 수 있다.