일반기술
Development of an energy efficient microwave diamond film deposition system
MW 플라즈마로 개발 경험을 기초로 하여 CAP(Circumferential Antenna Plasma reactor)를 개발. 현재는 새로운 장치로 915MHz, 유입파워 30kW, 샘플직경 125 또는 200mm 등에 따라서 작업압력 30-1000Mbar 그리고 빠른 작업속도를 구현하는 장치의 개발을 계획.CAP시스템은 평판한 substrate위에 다이아몬드를 deposition하기 위한 마이크로 웨이브시스템. 이 시스템을 이용하여 직경이 51mm인 실리콘 웨이퍼에 균질한 두께의 다이아몬드를 코팅. 이러한 코팅은 샘플 표면의 대하여 훌륭한 접착력과 고품질의 특성을 보유. 다이아몬드가 없는 필름은 인프라 레드 스펙트럼에 대하여 매우 낮은 흡수도를 나타낸다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2002-06-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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