일반기술
진보된 극미세 다공성 막 생산 공정법
본 기술은 구멍 크기가 50 nm 보다 더 작은 다공성 막을 확실하고 재현성 있게 제작하는 방법 개발에 관한 것이다. 본 공정에서는, 선행하는 얇은 필름 극미세 다공성 막의 제작에는 사용될 수 없었던 많은 다양한 물질들의 혼합이 가능할 뿐만 아니라, 바닥 층에 Silicon oxide 이외의 다른 구조물질을 사용할 수 있다. 또한 이 공정은 최종 구조물에서 (지지 기판 없이) 막 자체만을 이용하는, 다른 기판으로의 이동을 위한 막 구조물 제작에 이용될 수 있을 것이다.- 바닥 층에 Silicon oxide 이외의 물질 사용 가능.- 많은 다른 종류의 물질을 이용한 막 제작 가능.
기술정보
- 기술분류
- 보건·의료 > 기타 의료공학
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-01-27
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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