일반기술

브로드 빔 이온 이식기

이 이온 이식 디바이스는 큰 직경과 균일한 이온빔으로서 반도체 제조와 평면 디스플레이의 응용을 위한 것이다. 이 디바이스는 작은 직경의 발산 빔에서부터 큰 직경의 이온 빔을 만드는 장치이다. 이러한 장치와 방법은 분산된 이온빔의 방출과 이온빔 광학에 의한 필수적인 평행 이온빔으로의 전환에 의해 특성화된다. 이 장치는 이온 소스와 이온소스의 입구에 위치한 이온방출 전극, 이온 발산을 제한하는 방출전극에서부터 아래에 위치한 발산을 제한하는 전극 그리고 그 아래 위치한 1차 이온 가속전극 그리고 옵션으로 1차 가속전극 아래에 위치한 2차 가속 전극으로 이루어져 있으며 전압원과 전극을 연결하는 전기 커넥터 등으로 이루어져 있다. 전도 스크린이나 전극에 인가된 전압은 플라즈마의 경계면의 모양을 제어한다. 이런 식으로 이 빔의 발산과 필수적인 평행 이온 빔의 하부 변환은 발산을 제한하는 전극에서 10cm 와 100cm 사이의 직경을 가진다.- 원치않는 이온빔을 single mass spectrometer를 사용해서 쉽게 분리할 있다.- 목표물에 손상이 없다.