일반기술

CPS(constricted plasma source)

CPS(constricted plasma source)는 새로운 튼튼한 저가의 디바이스로서 유리와 플라스틱위에 GaN 박막과 광학필름의 성장을 위한 것이다. 이것은 수축(constricted) 글로방전(glow discharge)을 이용한 것으로서 캐소드(cathode)와 애노드(anode) 사이의 방전 통로에 위치한 작은 구멍(orifice)이나 수축에 의해 특성화 되어있다. 이온화 과정은 수축된 곳 부근에서 일어나고 이온화 가스(플라즈마)가 압력변화에 의해 수축된 곳을 통하여 일어난다. 현존하는 플라즈마원은 고 에너지상태와 저압에서 작동하고 이와 대조적으로 CPS는 저압 또는 고압 양쪽의 상황에서도 작동이 가능하고 우리가 원하는 종류의 이온화 개스의 밀도가 높은 저온 플라즈마 가스를 생산한다. 이러한 낮은 이온 에너지는 다른 플라즈마원을 이용해서 얻을 수 없는 섬세한 결정필름의 제작을 가능케 한다. 질소와 함께 사용되면 CPS는 블루 LED 와 레이저 다이오드를 만드는데 이용이 될 수 있으며 CD 플레이어와 평면디스플레이 그리고 교통신호에도 응용이 가능하다. 산소와 함께 사용이 되면 창을 위한 전기채색 코팅을 포함하여 다양한 산화필름의 증착에도 사용이 된다. 더 나은 이온 유발 수산화 필름(ion-conducting hydrated films)을 위해 수증기 플라스마를 만드는데도 이용할 수 있으며 또는 재생 가능한 리튬 배터리를 만들기 위해 리튬에 질소 이온을 이식하여 사용할 수 있다. 이는 전기자동차에 유용하게 사용될 수 있는 기술이다.튼튼하고 비용이 적게든다.저압과 고압 양쪽에서 작동할 수 있다.원하는 이온화 가스의 종류의 밀도가 많은 저온 플라스마를 생산한다.다른 플라즈마원으로 만들 수 없는 섬세한 결정성장을 할 수 있다.