일반기술

트위스트 필터를 가진 Cathodic Arc Plasma 시스템

이 기술은 새로운 필터 설계에 있어서 플라즈마의 손실을 최소화하기 위해 기존의 자기 가이딩의 개발에 관한 것이다. 그 효과는 플라즈마 처리량 또는 전송 효율을 최대화 할 수 있다는 것이다. 자기 필터의 축은 트위스트 되어 있어 2차원 디바이스가 되는 것이다. 평면이 아닌 필터의 장점은 입자 투과의 가능성이 크게 감소하고 입자들이 실제로 플라즈마에서 제거된다. 필터의 길이를 길게 할 필요가 없고 플라즈마의 손실도 없이 필터링은 더 완전하게 이루어진다. 이러한 3차원의 모양과 2개의 다른 특별한 모양을 포함해서 이 새로운 트위스트 필터는 효과적으로 완전하게 예전의 10%에서 25%의 처리량에서 50%까지 플라즈마 처리량을 끌어올리면서 macroparticle들을 걸러낸다. 앞에서 말한 처리량은 필터로 들어가는 플라즈마 입자와 나오는 플라즈마 입자의 비로 계산을 한다. 효율을 정량화 하는 다른 방법은 시스템 계수를 사용하는 것인데, 이것은 걸러진 플라즈마로부터 방출되어 나오는 이온 전류와 플라즈마 생성 아크 전류에 대한 비로 나타내는 방법이다. 이 트위스트 필터를 사용하면 티타늄 플라즈마의 시스템 계수가 예전의 1-3%에 비교해서 7%정도 높은 수준에서 측정된다. 플라즈마빔을 분산시키고 4 인치 또는 그보다 더 큰 직경의 영역에 균일하게 분배하기 위하여 플라즈마의 자기 가이딩을 이용했다. 코일과 선의 조밀한 구조는 20cm 이하의 길이를 가지는데 이는 이전에 가능했던 것 보다 더 많은 플라즈마를 보유한다. 20cm 이하의 작은 길이는 현재 사용되는 증착 장치에 적합한 filtered cathodic arc system을 가능하게 한다. 이 필터와 균질기(homogenizer)는 밀도 있고 연속적인 결함 없는 필름을 제작하기 위한 다양한 a filtered cathodic arc system에 사용된다.- 플라즈마 손실을 최소화- 플라즈마 처리량을 최대화- 전송효율을 최대호- 입자 투과율을 감소- 플라즈마에서 입자 제거- 4인치 이상의 직경 공간에 균일하게 플라즈마 분배- 현재 사용되는 증착장치에 적합