일반기술

소형 펄스 플라즈마 소스

이 기술은 소형 펄스 증기 진공 아크 플라즈마 건(miniature pulsed vapor vacuum arc plasma guns)에 관한 것으로서 이전의 박막증착을 위한 장치와 기술에서 상당한 발전을 이룬 것이다. 이 기술은 진공 아크 플라즈마 소스의 특별한 설계형식이 소형화를 이루었고 펄스모드 작동 또한 가능하게 했다. 이런 형태는 이전의 기술 방법보다 많은 잇점이 있고 박막 합성을 가능하게 한다. 이 기술이전에는 증기 아크 이온 소스(vacuum arc plasma source)를 100ANG 이하의 범위에 두께를 가지는 박막을 제작하는데 사용할 수 없었지만 이 기술에서 사용할 수 있게 되었다. 이 장치는 증착 플럭스(deposition flux)를 섬세하게 제어할 수 있는 소형 소스이며 박막과 다층 레이어를 각각의 작은 면적 위에 형성할 수 있고 게다가 넓은 면적을 가지는 박막에 응용이 가능하다. 이러한 공정에 대한 완전한 컨트롤-즉 필름의 두께와 조합이 모노레이어 급(.mu.=-.ANG.)으로 제작될 수 있는-이 이 장치에 의해서 실현되었다. 이 기술은 아주 간단하고 저비용의 방법이다. 그리고 최소의 셋업 시간을 가지고 원료의 낭비 없이 많은 난해한 변수를 가지는 제작방법으로 만들어지는 샘플들도 쉽게 생산 할 수 있다.- 소형이다.- 유연한 것들도 함께 묶을수 있다.- 많은 금속에 사용될수 있다.- 플라즈마 플럭스의 정밀한 제어를 한다