일반기술

높은 가로세로비 구조의 나노머시닝(미세기계가공)

이 기술은 수천에 달하는 높은 가로세로 비율과 20nm만큼 작은 크기의 정밀한 구조를 생산할 수 있는 나노머시닝 기술에 관한 것이다. 이 기술은 전자 빔 리소그래피, 엑스레이 리소그래피 그리고 LIGA(lithographie galvanoformung abformung) 같은 마이크로 제조 기법보다 우수하다. 이 나노 머시닝 기술은 무기 절연물질과 플라스틱 등 현재의 공정에서 쓰일 수 없는 그러한 재료를 포함해서 광범위하게 다양한 재료의 구조를 생산 가능하게 한다. 금속 구조는 2차 전기 주조 단계에서 형성될 수 있고 이 새로운 기술은 많은 새로운 광학적, 기계적, 전기적 특성을 가진 디바이스 제작을 하는데 사용될 수 있다. 센서와 디텍터, 작동기의 마이크로머시닝과 양자 디바이스, 방열판등의 고비율의 리소그래피, 의료용 이식기 , 외과 수술용 디바이스와 센서, 비파괴 마이크로 회로 검사 그리고 소형화된 구성요소의 집중과 팩키징등에 응용될 수 있다.- 종래의 공정에서 사용될 수 없는 다양한 범위의 재료들을 사용할 수 있다.- 형태의 크기는 20nm 만큼 제작될 수 있다.- 수천의 가로세로 비율을 가진다