일반기술

중성 빔 생산을 위한 양이온과 음이온 빔 병합 시스템

이 양이온과 음이온 빔 병합 시스템은 양이온 혹은 음이온 빔의 이온 이식 또는 퓨전 디바이스 안에 중성 빔을 주입하는 등의 응용 등에 기술적인 진보를 가져다 주었다. 원래 음이온과 양이온은 두 개의 분리된 이온 소스로부터 방출되고 대칭성을 가지는 탄도 모양으로 전자석 속을 통과한다. 이것은 빔들이 전자석을 떠날 때 빔들을 병합하기 위해서이다. 이런 빔 병합 시스템은 양이온과 음이온의 mutual neutralization의 높은 발생률을 일으킨다. 이것은 이온 이식작업 시에 낮은 에너지의 빔 전송상태에서 빔이 못쓰게 되어 버리거나, 고 에너지 중성빔의 형성시 중성이 아닌 많은 양의 빔 때문에 생기는 전력손실 등의 표준적인 기술 제한을 극복한다.- 저 에너지 빔의 전송 시에도 사용가능- Pal의 중화제가 이온을 이식할 때 필요가 없다.- 상호 중화를 위한 가스가 필요 없다.- 현재 사용하고 있는 저 에너지의 또는 중간 에너지 이식기와 함께 사용 가능하다.