일반기술

고온의 부하 또는 초고진공을 위한 정밀 광학 슬릿

이 기술은 광학에서 사용되는 정밀하게 정렬되고 조정되어지는 슬릿에 관한 기술이다. 이 광학 슬릿은 X-ray 광학과 X-ray 빔라인 그리고 높은 파장의 해상도에 중요한 입사 슬릿이 포함된 광학 시스템 등에 유용하다. 이 기술은 특별히 초 고진공 시스템 즉 윤활제가 사용되기 어렵고 초고진공 시스템의 고 파장 해상도를 위한 monochrometer 같은 금속부분이 서로에 대해서 움직이지 않게 하는 설계에 유용하다. 이 기술은 더 나아가 슬릿 소재의 열적 특성이 중요한 광학 시스템과도 관련이 있다. 본 기술은 정밀 슬릿과도 관련이 있는데 정밀 슬릿 안에서는 서로 마주보는 슬릿의 가장자리부분들이 반드시 평행한 상태에서 중심라인에 대해서 정밀하게 움직여야 한다.- 극한 상황에서도 sub-micron 급의 내구력의 유지가 고 전압 싱크로트론 방사선 소스에서 발견된다.- 비용이 적게 들고 서로 합치고 배열하는데 노력이 적게 든다..