일반기술

선택적 이온 소스

이온 소스는 선택된 이온이 더 높은 이온화 포텐셜을 가지는 원치 않는 이온 종류까지 확장 될 수 있다. 물론 PH3에서부터 나오는 P+같은 혼합물에서 선택된 이온을 생산하는 방법이기는 하다. 이 기술은 플라즈마 체임버, 전자 소스로부터 나오는 전자에 의해 이온화시키기 위하여 개스를 주입하는 방법, 전자 소스에서 나오는 전자 에너지 값을 선택 이온종의 이온화 에너지와 더 큰 원치 않는 이온종의 이온화 에너지 사이에서 제한하는 방법 그리고 플라즈마 체임버로부터 타겟 이온종을 확장하는 방법 등으로 이루어져 있다. 전자는 플라즈마 체임버와 이웃한 플라즈마 캐소드(cathode) 체임버에서 즉시 발생된다. 작은 확장기(extractor)는 플라즈마 캐소드 체임버에서 각각의 양의 플라즈마 체임버로 끌어 들인다. 이런 방법으로 확장된 전자의 에너지는 쉽게 제어된다. 이 기술은 특별히 실리콘을 P+, AS+ 그리고 B+로 수소, 헬륨, 물 또는 탄소산화물 이온 등이 없이 도핑 하는데 유용하다. 도핑된 실리콘은 반도체나 반도체 디바이스의 제작에 중요하게 이용된다.원치 않는 불순물이 없이 빔을 발생시킨다.