일반기술
고분해능 XRD (HRXRD )를 이용한 박막의 구조 특성 평가기술
본 기술은 고분해능(Highr esolution )XRD를 이용하여 에피층 또는 반도체 박막 등의 단결정 또는 단결정에 가까운 박막의 구조특성을 평가하는 기술로서 반도체산업의 발전과 함께 그 필요성이 점점 더 요구되는 기술이다. 에피층 박막을 이용하는 반도체 또는 광전자 소자의 요구되는 성능과 내구성은 재료의 구조특성 및 결정성과 직접 연관이 있으므로 비파괴적인 고분해능 X-선 평가기술은 소자특성을 간접적으로 평가하는 기술로 활용된다. 본 기술은 에피층의 결성성과 결함, 스트레인, 두께, 표면/ 계면특성 등의 구조적 특성을 로킹커브 또는 역격자공간 산란강도 분포도(reciprocal space mapping : RSM)등의 측정을 통하여 평가한다.반도체 또는 광전소자를 제조하는 산업분야. 특히 에피층을 이용하는 화합물 반도체 또는 실리콘을 응용하는 반도체 산업에서 활용가능.
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 기타 세라믹재료
- 보유기관
- 한국표준과학연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2002-10-25
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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