일반기술

홀로그래피의 투사를 이용한 X-선 회로 설계 기술

본 기술은 집적 회로를 제조하기 위해, 독특한 투사를 이용한 X-선 회로 설계 기술이다. 컴퓨터로 발생된 홀로그램은 웨이퍼 위에 원하는 영상을 투영하기 위하여 사용되었다. 본 기술에서 홀로그램은 유일한 광학적 구성요소다. 또한, 본 기술에서 홀로그램은 기존의 마스크와 투영 광학 장치를 대신한다. 한편, 홀로그래피 영상에서 시스템 오동작을 일으키는 신호를 제거한 홀로그램을 제조하기 위하여 알고리즘이 사용되었다. 본 기술의 홀로그래피 영상은 X-선 근접 프린트를 위하여 사용된 소스와 동일하지만 크기가 1/20으로 줄어든 작은 밴드폭을 가진 기존의 X-선 소스를 사용하여 투영되었다. 마이크로회로의 제조에 있어서 본 기술의 잇점은 불순물 함유에 대해서 우수한 대응 능력을 가지고 있다는 것이다. 또한, 본 기술은 높은 분해능, 제조 공정의 자유로움, 초점의 조절이 용이함, 결정 구조의 결점에 대한 내성이 우수함, 그리고 웨이퍼의 대량 생산 능력 등의 특성을 가지고 있다.홀로그램을 이용한 회로 설계 기술, 불순물에 대한 우수한 대응 능력, 기존의 마스크나 투사용 광학 장치 불필요