일반기술

기체 유속(流速)분포의 공간적 측정 기술

본 기술은 반도체 공정 등에서처럼 가스를 이용하여 공정을 진행시킬 때 유용하게 사용될 수 있는 기술이다. 즉 정해진 공간 내에서 가스의 흐름이 있을 때 만일 어느 부분에서는 가스의 분출량이 많고 어느 부분에서는 분출량이 적다고 하더라도 이것을 확인하기 위해서는 실제로 제품을 만들어 보고 또 여러 가지 시험을 거쳐 확인을 해 본 후에야 알 수 있다. 이 기술은 실제로 각 부분의 가스의 유속이 얼마인가를 상대적 또는 절대적으로 동시에 측정하여 가시화 하므로서 실제 공정에 들어가기 전에 시스템을 진단하여 시스템을 최적화 할 수 있게 하는 기술이다.- 기술의 장점 : 반도체 또는 플라즈마 공정 등에서 유용하게 사용될 수 있는 방법이면서도 그 원리가 간단하고 제작비가 적게 소요되며 활용도 가 높아 많은 수요가 예측됨. 반도체 등의 박막공정에 요긴하게 사용될 수 있음.- 반도체 공정에서의 head shower에서 나오는 가스의 유속 분포 측정, 유속 의 분포를 가시화 하여 한눈에 알아볼 수 있음.- 기타 공간내의 가스의 흐름(유속)의 가시화- 기대효과 : 공정에서의 시스템의 진단을 통한 공정조건의 최적화로 생산 수율을 높일 수 있음.