일반기술
AFM 리소그래피용 고감도 아크릴레이트계 공중합체
본 발명은 AFM(Atomic Force Microscope) 리소그래피에 응용되는 실리콘을 함유한 아크릴레이트계 공중합체를 제공한다. 또한, 본 발명은 반도체 또는 금속 기판 위에 다음의 상기의 공중합체로 이루어진 초 박막을 형성시킨 후, 새로운 미세가공 장치인 AFM의 탐침을 이용하여 상기의 박막에 국부적으로 전압을 가해주어 수 나노 미터 크기의 산화 패턴 형성시키는 기술에 관한 것이다.본 발명에서 제공하는 실리콘 함유의 아크릴레이트계 공중합체는 AFM 을 이용한 산화패턴 형성 시에 충분한 감도를 가지면서 기판 위에 도포 성능이 뛰어나며 막질에 대하여 우수한 접착 특성을 가진다. 또한 0.1 ㎛ 이하의 미세 패턴을 형성할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 재료 (B63)
- 보유기관
- 한양대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-04-01
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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