일반기술

세슘을 이용한 금속이온 스퍼터링 챔버

세슘을 이용한 금속이온 스퍼터링 챔버(chamber)는, 세슘(Cs)을 이용하여 박막재료물질의 이온화를 활성화시키고 활성화에 관여한 물질을 차단시키며, 타게트(target)와 기판(substrate)에 인가된 소정 바이어스를 조절하여 발생된 음이온 박막재료물질의 에너지를 제어하는 챔버에 관한 것이다- 반도체소자를 위한 박막 증착에 있어서,소정의 제1전원이 인가되며 박막증착을 위한 박막재료물질을 구비하고 있는 타게트장치,소정의 분위기에서 박막재료물질의 이온화를 활성화시키기 위한 세슘을 구비하여 타게트장치로 공급하며 소정의 제2전원이 인가되는 세슘공급장치- 메쉬장치로부터 소정거리 이격되고 인가된 소정의 제4전원에 따라 메쉬장치를 통과한 이온화된 박막재료물질을 증착시키기 위한 기판을 지지하는 기판지지장치를 포함하며,진공의 상태로 상기 박막 증착을 위한 소정 부피의 밀폐 공간상태로 형성되는 것을 특징으로 하는, 세슘을 이용한 금속이온 스퍼터링 챔버