일반기술
불소가 함유된 실리콘산화막을 식각 마스크 및 층간 절연막으로하는 박막 트랜지스터-액정디스플레이의 구조 및 제조공정
본 기술은 박막트랜지스터-액정디스플레이(TFT-LCD)의 제조방법에 있어서 불소가 함유된 실리콘 산화막(SiOF)를 식각마스크 및 이와 동시에 층간 절연막으로 사용하는 방법에 관한 것이다. 본 기술은 역스테거드형 박막트렌지스터를 사용한 TFT 어레이 제조에 있어서 게이트전극, 게이트절연막, 채널활성층 및 SiOF 채널식각마스크가 절연기판상에 형성된다. 제조된 TFT 어레이에서 SiOF 층은, TFT의 채널 상단 부위에서는 채널식각마스크의 역할을 수행하며, 배선의 교차지점에서는 배선간의 층간절연막의 역할을 동시에 수행한다.-계면 특성을 좋게함-층간정전용량이 크게 줄임-대면적의 TFT-LCD 패널의 설계가 크게 용이-화질 개선-고해상도
기술정보
- 기술분류
- 재료 > 부방식·표면처리 기술
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-04-23
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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