일반기술
광학 디바이스
본 기술은 전기장의 인가에 의해 광이 투과하는 파장을 이동시킬 수 있도록 하는 광학 디바이스에 관한 것이다. 본 기술은 결함층으로 작용하는 전기광학 박막과 그 전기광학 박막을 중심으로 그 상부면과 하부면에 순차적으로 교번하여 적층된 유전막과 전기광학 박막으로 이루어져 특정한 굴절률을 갖는 유전막과 전계의 인가에 따라 굴절률이 변화하는 전기광학 박막을 적층한다. 유전막이 형성하는 포토닉 밴드 갭 내의 특정한 파장에서 광을 투과하고, 전기장의 인가에 따라 그 투과되는 광의 파장을 변경함으로써, 편광자를 사용하지 않고 입사광을 변조하는 것이 가능해진다.- 특정한 굴절률을 갖는 유전막과 전계의 인가에 따라 굴절률이 변화하는 전기광학 박막을 적층하여, 유전막이 형성하는 포토닉 밴드 갭 내의 특정한 파장에서 광을 투과하고, 전기장의 인가에 따라 그 투과되는 광의 파장을 변경함으로써, 편광자를 사용하지 않고 광의 투과 파장을 변경함이 가능해져 광학 디바이스를 단순화하는 효과와 아울러 그 편광자에 의한 광의 손실을 방지함으로써 소광비를 증가시키는 효과가 있음
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 전자부품
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-05-22
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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