일반기술
이중 타겟 반응성 스퍼터링 장치 및 이를 이용한질화탄소막의 형성 방법
본 기술은 반응성 스퍼터링 장치 및 이를 이용한 질화탄소막의 형성방법에 관한 것으로서, 특히 평행하게 설치된 이중 타겟을 갖는 이중 타겟 반응성 스퍼터링장치를 이용하여 종래의 반응성 스퍼터링 장치보다 낮은 온도에서도 질화탄소막의 증착율을 높일 수 있으며 또한 공구강의 표면에 질화탄소막을 형성하여 공구강의 경도를 높이는 것을 목적으로 한다.이중 타겟 반응성 스퍼터링 장치에 의하면 반응실 내의 플라즈마를 생성하기 위한 자속밀도가 높고, 이중 타겟과 기판 사이의 자속밀도가 균일하기 때문에 종래의 반응성 스퍼터링 장치보다 낮은 온도에서도 질화탄소막의 증착율을 높이며, 결정의 연속성을 향상시킬 수 있며 또한 공구강의 표면에 질화 또는 탄화시키는 공정을 거친 후 질화탄소막을 형성시켜 공구강과 질화탄소막의 접착력을 향상시키고 공구강의 경도를 높일 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 기계 > 단위기계 요소부품
- 보유기관
- 경남대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-07-15
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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