일반기술

대면적 플라즈마 소스 형성장치

본 기술은 헬리컬 공명기(Helical Resonator)를 공정챔버의 상부에 어레이(array) 형태로 복수로 배열하여 대면적 플라즈마 소스를 형성함으로써 대면적의 실리콘 웨이퍼나 평판 디스플레이용 유리기판에 박막을 증착하거나 패턴형성을 위해 식각하는 데에 필요한 비평형 저온 플라즈마를 대면적으로 균일하게 형성하는 대면적 플라즈마 소스 형성장치에 관한 것이다. 본 기술은 공정챔버의 상부에 복수의 석영실린더가 설치되고 그 주위에 복수의 안테나가 배치되어 고주파전원 및 정합회로에 의한 제어로 공정챔버 내에 플라즈마를 형성하는 방법에 있어서, 고주파전원으로부터의 신호가 안테나의 중간에 연결되어 전달되며, 안테나에 흐르는 시변화전류에 의해 병렬 연결된 캐패시턴스와 인덕턴스가 유도되며 이들의 공명에 의해 효율적인 에너지 전달이 가능하게 되어 유도결합 플라즈마를 형성하도록 단위 플라즈마 소스가 어레이 형태로 배치되는 것을 특징으로 한다.- 본 기술은 대면적 플라즈마 소스를 형성함으로써 대면적의 실리콘 웨이퍼나 평판 디스플레이용 유리기판에 박막을 증착하거나 패턴형성을 위해 식각하는 데에 필요한 비평형 저온 플라즈마를 대면적으로 균일하게 형성하는 효과가 있