일반기술

동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법

본 기술은 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 기술은 스파이럴 형태의 평면안테나에서 안테나에 흐르는 전류의 양을 조절하여 RF 전력을 각 안테나에 균등하게 분배함으로써 플라즈마 밀도를 균일하게 할 수 있는 것과 동시에, 부가적인 장비를 설치할 필요 없이 간단한 시스템으로 구현할 수 있는 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법이다.- 본 기술의 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법에 의하면, 스파이럴 형태의 평면안테나에서 각 안테나의 전류조절기의 조절봉의 위치를 변화시켜 안테나 코일과 더미로드로 흐르는 RF 전류의 경로를 변화시킴으로써, 안테나에 흐르는 전류의 양을 조절하여 RF 전력을 각 안테나에 균등하게 분배하여 플라즈마 밀도를 균일하게 할 수 있음- 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법에 의하면, 안테나의 전류분포를 능동적으로 제어하여 직렬연결과 병렬연결에서 문제가 되었던 플라즈마 밀도의 불균일 현상을 해결할 수 있음- 부가적인 장비를 설치할 필요가 없으므로 시스템을 간단화시킬 수 있으며 제작비용을 절감시킬 수 있음

기술정보

기술분류
전기·전자 > 기타 반도체
보유기관
대일기업평가원
기술유형
일반기술
등록일
2003-07-14
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

관련 특허

등록된 관련 특허가 없습니다.