일반기술
동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법
본 기술은 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 기술은 스파이럴 형태의 평면안테나에서 안테나에 흐르는 전류의 양을 조절하여 RF 전력을 각 안테나에 균등하게 분배함으로써 플라즈마 밀도를 균일하게 할 수 있는 것과 동시에, 부가적인 장비를 설치할 필요 없이 간단한 시스템으로 구현할 수 있는 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법이다.- 본 기술의 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법에 의하면, 스파이럴 형태의 평면안테나에서 각 안테나의 전류조절기의 조절봉의 위치를 변화시켜 안테나 코일과 더미로드로 흐르는 RF 전류의 경로를 변화시킴으로써, 안테나에 흐르는 전류의 양을 조절하여 RF 전력을 각 안테나에 균등하게 분배하여 플라즈마 밀도를 균일하게 할 수 있음- 동축 병렬 안테나형 플라즈마 소스의 국소 인덕턴스 직접조절 장치 및 방법에 의하면, 안테나의 전류분포를 능동적으로 제어하여 직렬연결과 병렬연결에서 문제가 되었던 플라즈마 밀도의 불균일 현상을 해결할 수 있음- 부가적인 장비를 설치할 필요가 없으므로 시스템을 간단화시킬 수 있으며 제작비용을 절감시킬 수 있음
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 반도체
- 보유기관
- 대일기업평가원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-07-14
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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