일반기술

어레이형 고품위 공정용 플라즈마 소스 출력 및 균일도보정 장치 및 방법

본 기술은 평판형 ICP 단위소스를 공정챔버의 상부에 어레이 형태로 복수 배열할 경우에 발생하는 소스간의 불균등한 전력분배의 문제를 해결하여 비평형 저온 플라즈마를 대면적에서 균일하게 형성하기 위한 어레이형 고품위 공정용 플라즈마 소스 출력 및 균일도 보정 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 기술의 어레이형 고품위 공정용 플라즈마 소스 출력 및 균일도 보정 장치는, 정합 네트워크, 고주파전원, 안테나, 유전체창, 공정챔버를 설치하고 정합 네트워크 및 고주파전원에 의한 제어로 플라즈마를 대면적에서 균일하게 형성하기 위한 어레이형 고품위 공정용 플라즈마 소스 출력 및 균일도 보정 장치에 있어서, 안테나 코일과, 그 안테나 코일에 회전가능하게 부착되어 있는 가변 인덕턴스 스위치, 및 가변 인덕턴스 스위치에 부착되어 가변 인덕턴스 스위치의 회전에 따라 RF 전류의 경로를 변화시켜 인덕턴스를 변화시킬 수 있는 조절봉으로 구성된다.- 본 기술의 어레이형 고품위 공정용 플라즈마 소스 출력 및 균일도 보정 장치 및 방법에 의하면, 각 단위 안테나의 인덕턴스를 개별적으로 미세하게 조정하여 각 소스간의 RF 전력을 균등하게 분배함으로써, 대면적에서 소스간 플라즈마 밀도의 균일도를 향상시킬 수 있는 효과가 있음- 각 소스마다 복잡한 정합장치가 필요없게 되므로 장비를 간소화시킬 수 있음