일반기술

화학증착장치용 히터

본 기술은 화학증착(Chemical Vapor Deposition)장치의 반응관 내부에 설치되어 기판을 가열하는데 사용되는 기판(또는 기판지지대) 가열용 히터에 관한 것으로, 특히 원판상의 히터 판 위에 몰리브덴 히터 선을 평면상으로 다중 절곡하여 고정시킨 구조의 화학증착 장치용 히터에 관한 기술임.원판상의 히터 판에 몰리브덴 등으로 이루어진 히터 선을 평면상으로 다중 절곡하여 고정시키는 한편 히터 판의 하부 및 측면에 방열판을 설치하여 1500℃ 이상의 고온으로까지 가열이 가능하면서도 발열효율이 우수한 화학증착 장치용 히터를 구현하는 것을 목적으로 함.※구체적인 실시예 : 화학증착 장치용 히터는, 몰리브덴 또는 텅스텐 재질의 약 1mm 직경을 갖는 히터 선과, 몰리브덴, 텅스텐 또는 세라믹으로 이루어진 판상의 히터 판과, 히터 선이 기판지지대나 히터 판에 닿는 것을 방지하면서 히터 선을 히터 판 위에 지지시키기 위한 히터 선 지지구와, 히터 판의 하부 및 측면에 설치되어 히턴 선의 열이 기판쪽 이외의 하부나 측면으로 방출되는 것을 방지하기 위한 몰리브덴이나 텅스텐 재질의 방열판의 조합에 의해 이루어진 구조를 취함.