일반기술

아이티오진공착용타켓의 제조방법

본 기술은 높은 전도도와 투명성(Transparency to visible light)을 갖음으로써 액정화면, 태양전지에 사용되는 In2o3-Sno2(dlgk, `ITO`라 함)소재의 진공증착용 타켓의 제조방법에 관한 것으로, 폭발용사방법에 의해 저렴하게 고밀도의 특성을 갖는 진공증착용 타켓을 제조하는 방법에 관한 것이다.<<기존의 기술 및 문제점>> ITO타켓은 진공증착과 스퍼터링에 사용되며, 낮은 전기저항치를 갖는다. 또한, ITO타켓의 밀도는 진공증착시 코팅 필름의 생산성 및 특성에 크게 영향을 준다. 고밀도 타켓은 첫째로 증착속도를 높이고, 둘째로 안정된 전기저항치를 나타내며, 셋째로 흑점(Black Spot)을 감소시킨다. 따라서, ITO타켓은 가능한 밀도를 높여야 하나 실제적으로는 어려움이 많다. 이런점 때문에 종래의 방법은 제조공정이 복잡하고 제조비가 많이 들며, 특히, 흑점이 발생할 우려가 있으며, 고밀도를 확보하기 어렵다는 문제가 있다. 또한, 필름을 제조하는 스퍼터링 공정중 타켓의 중앙부가 선택적으로 타원형 형태로 에칭되며, 이와 같이 에칭된 것은 다시 보수할 방법이 없어 수명이 단축된다는 문제가 있었다.<<본 기술의 특징>>기존의 기술문제를 개선하기 위하여 폭발용사방법을 이용 ITO분말을 금속제 기판 표면에 고속으로 용사함으로써 간단하게 고밀도의 ITO타켓을 제조하는 방법을 제공하며, 제조방법은 금속기판에 분말을 이용하여 코팅층을 형성하는 방법에 잇어 금속기판을 블라스팅(Blasting)한 다음, 블라스팅 금속기판에 10-20㎛ 크기의 In2o3 와 Sno2분말을 900m/s 이상의 고속으로 폭발용사하여 코팅층을 형성하는 것이다.또한, 본기술은 타켓의 제조에만 이용되는 것이 아니라, 진공증착 공정 중 선택적으로 타켓의 중앙부만 타원형으로 에칭되어 사용이 어려운 것도 그 에칭된 부분만 재보수 코팅하는데 적용할 수 있다.<<효과>>종래의 세라믹 소결방법과는 달리 공정이 간단한 폭발용사방법으로 고밀도의 진공증착용 ITO타켓의 제조가 가능하며, 종래 타켓의 중앙부 손상에 의해 버려지는 타켓도 보수하여 사용할 수 있는 효과가 있다.