일반기술
나노미터 크기의 광도파로 제작 방법
나노미터 크기를 갖는 광도파로 제작기술로서, 특히 기판의 표면에 나노미터 크기를 갖는 표면구조를 형성시킴으로서 기판위에 증착되는 광도파로 재료를 기판의 나노미터 크기의 표면구조에만 증착되도록 함으로서 나노미터 크기의 광도파로를 제작하는 방법이다. 박막을 이용한 광도파로의 제작에는 주로 사파이어 기판을 사용하며, 광도파로의 재표로 LiTaO3의 박막을 증착시킨 후 사진, 석판 인쇄방법으로 도파로 패턴을 형성하고 있다.나노광소자 및 나노광학디바이스에 있어서 필수적인 나노미터크기의 광도파로구조를 제작할 수 있는 기술로 현재의 광식각 공정으로는 나노미터크기의 패턴제작이 불가능하나, 본 기술로는 간단히 제작 가능하며, 공정의 단순화 및 제조 경비의 절감도 가져오는 기술이다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 전자부품
- 보유기관
- 정보 없음
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-07-14
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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