일반기술
광섬유를 사용한 서브 마이크로미터 발광체의 제조방법
본 기술은 광섬유를 이용한 서브마이크로미터 발광체의 제조를 하는 기술로서, 빛의 파장 이하의 크기를 갖는 틈(aperture)을 갖도록 제작된 광섬유의 선단으로부터 새어나오는 나노미터 영역의 광을 이용하여 서브마이크로미터 크기의 Si 기판속으로의 발광원소의 도핑이나, 또는 Si을 부식시켜 porous Si를 나노미터 크기로 형성시킴으로써 Si 기판에 서브마이크로미터 크기 또는 100 나노미터 크기 이하의 발광구조를 제작하는 기술이다.나노광전자디바이스에 필수적인 나노미터 크기의 광원을 Si 기판에 제작하는 기술로서, 복잡한 광식각공정이 필요없는 기술이며, 또한 프로그래밍 광섬유의 제어가 가능한 컴퓨터 시스템에 입력하면 점, 선 등의 다양한 패턴들을 형성하는 것도 가능하다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 전자부품
- 보유기관
- 정보 없음
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-07-23
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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