일반기술
MHZ 세정 장치(MS-6000Series, MS-8000Series)
당기술은, 세정수에 메가헤르츠 초음파를 더해 wafer상의 파티클을 제거하는 것이다.1) 고세정력과 저비용을 동시 실현2) 공간절약：1.17㎡(MS-8000type-Ⅱ)3) 바코드에 의한 상위 컴퓨터와의 통신 기능부4) 심플한 조작성과 높은 신뢰성 규 격적용 캐리어 ： 6 인치, 8 인치적용 wafer ： 6 인치, 8 인치처리 능력 ： 25 wafer/40분파티클 제거율 ： 90%이상(0.2μm이상)전원 ： AC100V, 50/60Hz, 50A세정용 순수한 물： 300 L/Hr, 0.15~0.5Mpa고압 에어 ： 0.1/nin, 0.5Mpa배수계 ： 피크시 300L/Hr배기 ： 2.8/min라인 진공 ： -65kpa
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 기타 전자제품
- 보유기관
- 한국생산기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-07-23
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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