일반기술

광 도파로의 손실 및 모드패턴 측정시스템

본 발명은 광 도파로의 손실 및 모드패턴 측정시스템에 관한것으로서 광 도파로를 가열하여 굴절률을 변화시키면서 그 광 도파로를 통해 출력되는 광의 세기로 광 도파로의 손실계수를 측정하고, 또한 광 도파로에서 출력되는 광을 촬영하여 광의 모드패턴을 측정하는 광 도파로의 손실 및 모드패턴 측정시스템에 관한 것이다. 1. 발명이 속한 기술 분야 광 도파로의 도파 손실 및 모드패턴의 크기를 측정하기 위한 장치의 구성과 측정된 결과 를 분석하는 연산방식에 관한 것이다. 2. 발명의 목적광 도파로의 손상 없이 입사되는 광원의 편광에 따라 신뢰성 있는 도파 손실을 측정하고 광 도파로에 존재하는 모드 패턴의 형태 및 크기를 정확히 측정하고자 하는 데 있다. 3. 발명의 구성간섭성이 있는(coherent) 광원을 사용하여 일정한 결정방향을 갖는 광 도파로 내에 파브 리-페로트(Fabry-Perot) 공명을 일으키고, 광 도파로 샘플을 가열하여 광 도파로 내 굴절 률을 변화시키면서 출력되는 광의 세기 변화로부터 도파 손실을 측정하며, 간섭성이 없는 (incoherent) 광원을 사용하여 광 도파로를 진행하는 모드 패턴의 형태 및 크기를 측정할 수 있는 장치 구성 및 연산방식 등이 제시된다. 4. 발명의 효과광 도파로의 도파 손실과 모드패턴의 형태 및 크기를 재현성 있게 정확히 측정할 수 있다.