일반기술
마이크로렌즈 주형 및 제조방법
포토리소그라피(Photolithography) 및 이방성 에칭 공정 기술을 이용하여 실리콘 기판에 원형 홈을 제작하고 그 위에 미세 산화 분말을 도포한 후 1000℃ 이상의 고온에서 열처리하여 구면 또는 비구면 마이크로 렌즈 및 마이크로 렌즈 어레이 금형을 제작. 반도체 공정 기술을 응용함으로써 정밀 가공된 금형 제작이 용이하고 대량 복제로 인한 양산성이 매우 뛰어나며, 또한 고온 열처리 가공되어 내구성·내화학성 매우 강하여 다양한 소재의 마이크로 렌즈 및 마이크로 렌즈 어레이를 제작이 용이함.고품질의 마이크로 렌즈를 금형을 이용하여 양산이 용이함으로써 광통신 부품 및 디스플레이 산업 전반에 가격 경쟁력 우위의 제품을 제작 가능함.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 재료 (B63)
- 보유기관
- 동신대학교
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-07-30
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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