일반기술
Epi-retinal implant 기술에 사용되는 3차원 전극
이리듐 옥사이드 3차원 stimulation 전극 개발을 위한 기술로 폴리이미드 사이에 금으로 된 전도체를 삽입하고 폴리아미드 표면에 금으로 제작된 전극을 장착하며 이들을 이리듐 옥사이드로 코팅 처리하여 안구내부의 망막표면에 이식하는 기술로 인공망막의 전극으로 사용된다고 볼 수 있다. 이 기술은 특별히 실리콘을 대체한 이리듐 옥사이드의 사용함으로 인해 인체 거부도를 크게 낮추었다.기존의 sub-retinal implant 기술보다 정확한 신호 전달이 가능한 차세대 epi-retinal implant 기술이라고 말할 수 있으며. 실리콘을 대체한 이리듐 옥사이드의 사용함으로 인체 거부도를 크게 낮추었다 할 수 있다.
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 센서·엑츄에이터 소자 (F61)
- 보유기관
- 한국과학기술연구원
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2003-08-19
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
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