일반기술
표면발광반도체 레이저 제작
- 광신호 병렬처리 및 광인터커넥션- CD 플레이어의 pick-up 광원- 특수산화막 제조공정- MOCVD 방법으로 표면발광 레이저 구조를 성장함- AlAs를 산화시켜 만든 산화막을 이용하여 전류를 활성 영역에 주입시키고 광 손실을 줄임- 활성층 영역 가까이에 p형 금속접촉을 만들고 레이저 반사경을 열저항이 낮은 2원소 화합물 반도체로 구성하여 레이저 구동시 발생되는 열을 효율적으로 외부로 빠지도록 함- AlAs를 외부환경으로 부터 보호하는 보호막을 표면 산화막 형성으로 만듬- 많은 양의 정보를 보다 빨리 처리하고자 하는 필요성은 현재의 시스템보다 더욱 효율적인 빛을 이용한 정보처리 시스템의 개발로 실현 될 수 있을 것이다. 이러한 새로운 정보의 병렬처리 및 광집적회로의 구성을 통한 정보처리 속도의 증가를 가져올 수 있을것으로 예상됨
기술정보
- 기술분류
- 전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
- 보유기관
- 정보 없음
- 기술유형
- 일반기술
- 등록일
- 2004-02-21
- 데이터 갱신일
- 정보 없음
상세설명
정보 없음
관련 특허
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