일반기술

폭발성가스 검지용 후막형 반도체 가스 센서어레이 및 그제조방법

본 기술은 후막형 반도체 가스 센서어레이 및 그 제조방법에 관한 것이다.본 기술은 백금페이스트를 이용해서 알루미나기판의 앞면에다 실크 스크린프린팅하여 다수의 전극을 형성함과 더불어 알루미나기판의 뒷면에는 히터를 형성시켜 800℃∼1200℃로 5분 내지 30분 정도 열처리 하고, 전극 상에 실크 스크린프린팅으로 다수의 감지물질을 형성한후 100℃에서 1시간 건조시킨 다음 700℃내지 900℃로 1시간 내지 4시간 범위에서 열처리 하며, 은페이스트를 이용하여 핀을 각 전극에다 고정시켜 상온에서 24시간 건조시킨 후 100℃내지 300℃에서 1시간 내지 3시간 동안 열처리하여 센서를 제조하는 방법에 관한 것이다.- 단일 가스센서가 갖고 있는 다른 종류의 폭발성가스에 대한 선택성의 결핍과 시간에 따른 신호변동으로 생기는 경보기나 계측기의 성능저하 및 오동작을 제거할 수 있을 뿐만 아니라 폭발성가스(부탄, 프로판, 메탄 등)를 선택적으로 인식 및 정량화할 수 있음.- 주변 소자 히터의 온도편차로 생기는 열적영향 및 공간적 외란을 제거하고, 센서의 공간적 분리로인하여 측정대상 가스의 공간적 불균일 또는 미소한 가스의 와류에 의한 센서신호의 변동 가능성을 배제하며, 안정하고 높은 감도를 가지면서 제작상의 공정이 용이한 선택성을 갖음

기술정보

기술분류
전기·전자 > 반도체 공정 (B63)
보유기관
대일기업평가원
기술유형
일반기술
등록일
2004-03-26
데이터 갱신일
정보 없음

상세설명

정보 없음

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